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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)테스 |
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연구책임자 | 정우영 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2018-10 |
과제시작연도 | 2017 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO202200007672 |
과제고유번호 | 1415155817 |
사업명 | 산업현장핵심기술수시개발 |
DB 구축일자 | 2022-09-10 |
키워드 | 원자층 증착 장비.3D NAND Flash.Step Coverage. |
3. 개발결과 요약
※ 최종목표
□ 세계 최고 수준의 원자층 증착 장비 기술 개발
■ Step Coverage > 100 %
■ Growth Rate > 1700 Å/hour
■ Thickness uniformity < 2 %
■ Wet Etch Rate > 0.65 Å/sec
■ Particle < 100 ea
※ 개발내용 및 결과
하나의 챔버에 복수의 반응기를 설치하여 생산성을 향상하고, 반응기 간의 RF 간섭 현상 방지 및 분기 시스템 최적화를 통해 반응기 별 동일한 특성
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