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NTIS 바로가기주관연구기관 | 인천대학교 University Of Incheon |
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연구책임자 | 이한보람 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2023-03 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202300008497 |
과제고유번호 | 1711166419 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부) |
DB 구축일자 | 2023-09-26 |
키워드 | 선택적 증착.원자층 증착법.밀도범함수 이론.Monte Carlo 시뮬레이션.표면 반응 메커니즘.Area selective deposition.Atomic layer deposition.Density functional theory.Monte Carlo simulation.Surface reaction mechanism. |
□ 연구개요
본 연구에서는 원자 스케일에서 일어나는 화학반응의 근본적인 메커니즘을 물리/화학적 분석과 이론적 계산을 이용하여 파악하고, 이를 바탕을 ALD (atomic layer deposition)에서 표면 특성을 조절하여, 원자 단위의 선택적으로 박막을 형성 (area selective deposition ;ASD)하거나 제거하는 (Area selective etching ;ASE) 방법을 만들어 고품질의 3차원 나노 패턴 형성을 통한 전반적인 나노공정/반도체 공정 기술 향상을 목표로 한다.
□ 연구 목표대비
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