초록 ▼

□ 연구개발 목표 및 내용
○ 최종 목표
● 최대 8인치 웨이퍼의 식각 균일도를 ±5% 이내 확보
● 기 개발된 이온빔 소스의 플라즈마 밀도를 집속전류밀도 10% 이상확보
● 초당 20nm의 식각율로 3분 이내의 이온빔 방출이 통상적인 이온빔 소스의 사용조건 이지만, 본 개발에서는 최대 30분 이상 안정적으로 이온빔의 연속방출이 가능한 이온빔 소스의 개발
● RF매칭네트워크의 물리적인 크기를 기존 경쟁제품 대비 80%이하로 축소
● 경쟁제품 대비 80% 이하의 판매가격을 위한 원가경쟁력 확보
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□ 연구개발 목표 및 내용
○ 최종 목표
● 최대 8인치 웨이퍼의 식각 균일도를 ±5% 이내 확보
● 기 개발된 이온빔 소스의 플라즈마 밀도를 집속전류밀도 10% 이상확보
● 초당 20nm의 식각율로 3분 이내의 이온빔 방출이 통상적인 이온빔 소스의 사용조건 이지만, 본 개발에서는 최대 30분 이상 안정적으로 이온빔의 연속방출이 가능한 이온빔 소스의 개발
● RF매칭네트워크의 물리적인 크기를 기존 경쟁제품 대비 80%이하로 축소
● 경쟁제품 대비 80% 이하의 판매가격을 위한 원가경쟁력 확보

○ 전체 내용
1. 기술개발의 필요성
가. 고가의 외산 이온빔 소스의 높은 국내 시장점유율을 높은 식각율과 안정성 갖는 국산제품으로 대체
나. 초미세 선폭공정의 증가로 고출력 플라즈마를 이용한 이온빔 소스이 필요성 대두
다. 높은 플라즈마 밀도에 비교하여 상대적으로 부족한 균일도의 재고
2. 기술개발의 목표와 내용
가. 이미 개발 확보한 플라즈마 밀도의 증가기술에 비해 부족한 6인치 이상의 시험체에서의 식각균일도 기술 확보
나. RF코일과 RF매칭네트워크의 거리를 최소화하기 위한 RF매칭네트워크의 경량화
다. 식각물질의 다양화에 따른 이온빔의 장시간 노출에 따른 출력변동성 제어를 위한 이온빔 소스 모듈의 냉각장치 개발

□ 연구개발성과
신뢰성 있는 Ion-Source 의 개발
균일도 ±5%의 Source 개발 및 안정적인 플라즈마 발생확보.
신뢰성 확보 이후, 구매 계약 성립.

□ 연구개발성과 활용계획 및 기대 효과
1. 활용방안
가. 균일도는 우수하나 집속밀도가 상대적으로 낮은 외산 이온빔으로도 식각이 어려운 물질의 식각에 당사의 이온빔 소스가 사용되고 있으나, 당사의 이온빔은 균일도의 약점을 가지고 있다. 따라서, 이온빔으로 식각이 가능한 물질의 대상 수가 넓어짐에 따라 소자 연구에 폭 넓게 사용될 수 있을 것으로 예상.
나. 이온빔을 식각의 용도로만 사용하는 것이 아닌 식각된 물질이 동시에 베리어 성장증착용으로 사용함으로써 MEMS, 센서 등의 분야에 새롭게 적용될 수 있을 것으로 예상.
2. 기술적인 측면의 기대효과
이온빔의 집속전류밀도와 균일도를 향상시킴으로써 습식식각 방식에 비해 단점으로 지적잡던 건식식각방식의 느린 공정속도를 개선
3. 경제, 산업적인 측면의 기대효과
가. 까다로운 구매과정, 원활치 못한 사후수리에도 불구하고 대부분의 시장을 점유하고 있는 고가의 외산제품을 국산으로 대체
나. 환경문제가 부각되고 있는 흐름에 따라 건식식각 방식의 단점을 보완함으로써 일부 분야에 대체가 가능할 것으로 예상.

(출처 : 요약문 2p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 요 약 문 ... 2
• 목차 ... 4
• 1. 연구개발과제의 개요 ... 5
• 2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 ... 5
• 3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 정도 ... 7
• 1) 연구수행 결과 ... 8
• 2) 목표 달성 수준 ... 12
• 4. 목표 미달 시 원인분석 ... 12
• 1) 목표 미달 원인(사유) 자체분석 내용 ... 12
• 2) 자체 보완활동 ... 12
• 3) 연구개발 과정의 성실성 ... 12
• 5. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도 ... 13
• 6. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 ... 13
• 끝페이지 ... 15