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NTIS 바로가기마이크로 리소그래피 기술이 발달하면서 선폭의 길이는 점점 줄어드는 추세이다. 선폭이 줄어 들면서 해상력 증가 기술(RET)은 파장이 짧아 질수록 더 큰 개구수를 요구하고, 위상 변이 마스크에서는 변형조명계와 근접효과 보정등을 고려하여야 한다. 우리는 45 nm 이하의 선폭을 갖는 최적의 위상 변이 마스크로 Chromeless Phase Lithography (CPL) Mask 와 Attenuated Phase Shift Mask (att.PSM) 을 구현하기 위해 Solid-E 프로그램을 이용하였다. 선폭이 줄어들면서 마스크의 결점과 산확산 길이 또한 패턴 구현에 크게 영향을 미친다. 이에 관련하여 마스크 위에 직접 결점을 만들어 결점의 투과도와 위상에 따른 CDU (CD uniformity) 값과 공정 여유도를 확인하였고, 산확산 길이에 따른 패턴의 두께 변화와 공정 여유도를 att.PSM 과 CPL mask 두가지 마스크에 대하여 연구하였다. 이의 결과로는 결점이 측정 범위 내에 많이 존재할수록 투과도가 떨어지고 위상이 크게 변할수록 CDU 값과 공정여유도 값은 확연히 나빠질 것을 예측할 수 있다. 또한 산확산의 길이가 길어 질수록 패턴의 두께는 크게 감소하고 CDU 값 역시 안정 범위를 벗어나게 되어 우리는 45 nm급 위상변이 마스크에서의 산확산의 한계를 확인할 수 있었다. 이 두 가지의 연구를 통하여 att.PSM 과 CPL mask 의 선폭 구현에 적당한 조건을 찾아갔다. 끝으로 구해진 적정 조건에서 근접 효과 보정(...
Microlithography has shown amazing development over the last decade and has continued to be one of the critical success factors for enabling ever smaller feature sizes. Resolution enhancement technology (RET) refers to a technique that extends the usable resolution of an imaging system without decre...
저자 | 강영민 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 응용물리학과 |
지도교수 | 오혜근(Oh Hye-Keun) |
발행연도 | 2008 |
총페이지 | vi, 40 p. |
키워드 | 물리학 |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T11231007&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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