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본 연구에서는 현재 디스플레이 개발 방향에 맞춰 저온 공정이 가능한 고성능 Metal oxide Thin film transistors (TFTs) 개발을 목표로 하고 있다. 이를 달성하기 위해 저온 공정이 가능한 IGTO 박막 및 TFT의 연구를 선행으로 진행하였고, 전체 저온 공정의 Hybrid Gate dielectric이 적용된 IGTO Top gate TFT의 특성을 확인하였다.
먼저, IGTO 연구에서는 ...
저자 | 김현아 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전자컴퓨터통신공학과 |
지도교수 | 정재경 |
발행연도 | 2019 |
총페이지 | vi, 31 p. |
키워드 | 전자통신학 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15034590&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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