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[국내논문] DC 스트레스에 의해 노쇠화된 LDD MOSFET에서 문턱 전압과 Subthreshold 전류곡선의 변화
The Shift of Threshold Voltage and Subthreshold Current Curve in LDD MOSFET Degraded Under Different DC Stress-Biases 원문보기

전자공학회논문지 = Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics, v.26 no.5, 1989년, pp.46 - 51  

이명복 (韓國科學技術硏究院 光電子工學 硏究室) ,  이정일 (韓國科學技術硏究院 光電子工學 硏究室) ,  강광남 (韓國科學技術硏究院 光電子工學 硏究室)

초록
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DC 스트레스에 의해 노쇠화된 짧은 채널 LDD NMOSFET에서 문턱전압과 subthreshold 전류곡선의 변화를 관측하여 hot-carrier 주입에 의한 노쇠화를 연구하였다. 포화영역에서 정의된 문턱전압의 변화 ${Delta}V_{tex}$를 trapped charge에 기인한 변화성분 ${Delta}V_{ot}$와 midgap에서 문턱전압 영역에 생성된 계면상태에 의한 변화성분${Delta}V_{it}$로 분리하였다. 게이트 전압이 드레인 전압보다 큰 positive oxid field ($V_g>V_d$) 조건에서는 전자들이 게이트 산화막으로 주입되어 문턱전압이 증가되었으나 subthreshold swing은 크게 변화하지 않고 subthreshold 전류곡선만 높은 게이트 전압으로 평행 이동하였다. 게이트 전압이 드레인 전압보다 낮은 negative oxide field ($V_g) 조건에서는 hole이 주입되고 포획된 결과를 보였으나 포획된 positive charge수 보다 더 많은 계면상태가 동시에 생성되어 문턱전압과 subth-reshold swing이 증가되었다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The degradation phenomena induced by hot-carrier injection was studied from the shift of threshold voltage and subthreshold current curve in LDD NMOSFET degraded under different DC stress-biases. Threshold voltage shift ${Delta}V_{tex}$ defined in saturation region was separated into cont...

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