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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.5 no.2, 1995년, pp.197 - 202
이은구 (조선대학교 재료공학과) , 박진성 (조선대학교 재료공학과) , 이재갑 (조선대학교 재료공학과)
The surface morphology and grain growth of amophous silicon (a-Si) films deposited by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) have been investigated as a function of deposition and in sltu annealing condition. The film deposited at the amorphous to polycrystalline transition temperature has a...
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