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NTIS 바로가기大韓機械學會論文集. Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. B. B, v.22 no.5 = no.152, 1998년, pp.651 - 660
김일경 (한양대학교 대학원) , 정민철 (한양대학교 대학원) , 유승일 (삼성전자㈜) , 채승기 (한양대학교 기계공학과) , 김우승 (삼성전자㈜) , 남기흠 (삼성전자㈜)
In the LPCVD reactor the temperature variations within the wafer load are the most important factor to maintain the thickness of the materials deposited on the surface of the wafer constant and to affect the deformation of each wafer. In this study the temporal variations of radial and axial tempera...
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