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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.31 no.2, 1998년, pp.117 - 126
김현수 (성균관대학교 재료공학과) , 이원정 (성균관대학교 재료공학과) , 백종태 (한국전자통신연구소) , 염근영 (성균관대학교 재료공학과)
In this study, the residue remaining on the silicon wafer during the oxide overetching using
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