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반도체 웨이퍼 세정 장비 모니터링 시스템을 위한 기본 요소의 분석 및 설계
Design and Analysis of the Basic Components for the Semiconductor Wafer Cleaning Equipment Monitoring System 원문보기

정보처리논문지 = The transactions of the Korea Information Processing Society, v.7 no.1, 2000년, pp.115 - 125  

강호석 (호서대학교 대학원 컴퓨터공학과) ,  임성락 (호서대학교 컴퓨터공학부)

초록
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본 논문에서는 반도체 웨이퍼 세정 장비를 위한 모니터링 시스템의 기본 요소와 이를 기반으로 모니터링 시스템 모델을 제시한다. 기본 요소는 모니터링 시스템에서 요구되는 필수적인 기능으로써 제어 시스템과의 통신, 사용자 인터페이스, 원격 감시 시스템과의 통신, 감시 데이터 관리, 테스크간 통신으로 구성된다. 기본 요소들의 기능과 기본 요소들 간의 관계를 정의하여 독립된 테스크로 설계한다. 제시한 모델의 타당성을 평가하기 위하여 Windows NT에서 Visual C++를 사용하여 기본 요소들을 구현하여 반도체 웨이퍼 세정 장비의 모니터링 시스템에 적용해 보았다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this paper, we suggest the basic components of monitoring system for the semiconductor wafer cleaning equipment and a monitoring system model based on these components. Basic component is defined as a mandatory function which consists of communication with the control system, user interface, comm...

참고문헌 (17)

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