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NTIS 바로가기한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.38 no.11 = no.234, 2001년, pp.1037 - 1041
조성민 (성균관대학교 신소재공학과) , 김용탁 (성균관대학교 신소재공학과) , 서용곤 (전자부품연구원 광부품연구센터) , 임영민 (전자부품연구원 광부품연구센터) , 윤대호 (성균관대학교 신소재공학과)
Silicon diosixde thick film using silica optical waveguide cladding was fabricated by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) method, at a low temperature (32
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