최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, v.41 no.12 = no.330, 2004년, pp.13 - 19
손영수 (한국기계연구원 첨단산업기술연구부) , 채상훈 (호서대학교 전자공학과)
We have been studied on the high concentration ozonized water production technology which substitute for the SPM wet cleaning solution process as the PR strip process after the photolithography process in the semiconductor and flat panel display manufacturing. In this work, we have developed the sur...
W. Kern, Handbook of Semiconductor wafer Cleaning Technology, Noyes Publications, West wood, NJ, pp.383-391, 1993
J. K. Tong, et al., Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, J.Ruzyllo and R.E. Novak, Editors, PV 92-12, p.18, The Electrochemical Society Proceedings Series, Pennington, NJ, 1992
J. Wei and S. Verhaverbeke, Cleaning Technology in Semiconductor Device manu-facturing V, The Electrochemical Society, Inc.,Pennington, NJ, pp.496-504. 1998
S, Nelson, 'Ozonated Water for Wafer Cleaning and Potoresist Removal', Solid State Technology, pp.107-112, July 1999
J. Cheng, D. Nemeth, 'The Study of Tempera-ture Effect in Photoresist Stripping with DIO3 Process', Technical Report, Akrion, Allentown, PA, April 1999
Bruno Langlais David A,'Ozone in water treat-ment; application and engineering', American Water Works Association Research Foundation, 1991
S.De Gendt, J. Wauters adn M. Heyns, A novel photoresist and Post-Etch Residue Removal Process Using Ozonated Chemistry, Solid State Technoloty, December, pp.57-60, 1999
박진구, '환경친화적 일조형 웨이퍼 세정기술 보급', 청정생산기술 이전확산사업 보고서, 2003년 2월
차성일, '오존발생기 성능시험방법 표준화', 산업기반 기술 표준화연구사업 보고서, 2002년
손영수, 함상용, 문세호, '반도체 웨이퍼의 오존수 세정을 위한 고농도 오존발생장치 특성연구', 대한전기학회 논문지 제52권 C편, 제12호, 579-586쪽, 2003년
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.