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한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, v.16 no.3, 2005년, pp.235 - 238
최상국 (전자통신연구원) , 이천희 (청주대학교 전자공학과)
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A Multiple electron beam lithography system with arrayed microcolumns has been developed for high throughput applications. The small size of the microcolumn opens the possibility for arrayed operation on a scale commensurate. The arrayed microcolumns based on of Single Column Module (SCM) concept ha...
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E. Kratschmer, H.S. Kim, M.G.R. Thomson, K.Y. Lee, S.A. Rishton, M.L. Yu, S. Zolgharnain, B.W. Hussey, and T.H.P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 14 (6), 3792, (1996)
T.H.P. Chang, M.G.R. Thomson, E. Kratschmer, H.S. Kim, M.L. Yu, K.Y. Lee, S.A. Rishton, B.W. Hussey, and S. Zolgharnain, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3774 (1996)
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