최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | EP2022/070283 (2022-07-20) |
공개번호 | 2023/041224 (2023-03-23) |
우선권정보 | 10 2021 210 243.3 (2021-09-16) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
The invention relates to a DUV lithography system, comprising: a light source for generating DUV radiation at at least one operating wavelength in the DUV wavelength range, a photomask, and an optical element (44) that transmits the DUV radiation (8), which is spaced apart from the photomask and on
대표청구항이 없습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.