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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.41 no.6, 2008년, pp.274 - 278
3-dimensional numerical analysis for a rectangular magnetron cathode model is done to predict cooling characteristics of high power sputtering system for ZnO deposition. It includes cooling channel design, heat transfer analysis of a target, bonding layer and backing plate. In order to model erosion...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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고속 증착을 하기 위해 필요한 것은? | 마그네트론 스퍼터링은 많은 산업적 응용을 가지고 있는데 금속 및 세라믹 타겟에 대한 대면적 고속 증착 성능이 요구되고 있다1). 고속 증착을 위해서는 필히 높은 전력 밀도를 인가할 수 있어야 하므로 타겟, 본딩층, backing plate, 수냉 채널을 포함하는 전체 모듈의 종합적인 설계 능력이 요구된다2). 본 연구에서는 대표적인 금속 타겟인 알루미늄과 ITO의 대체 물질로 고려되고 있는 AZO(Aldoped zinc oxide) 타겟을 대상으로 높은 전력 밀도에서 타겟의 침식 형상에 따른 열응력 분포를 여러 가지 냉각 조건에 따라서 3차원 모델링하였다. | |
스퍼터링으로 타겟의 표면 온도가 올라가 있는 상태에서 적외선 이미지를 촬영하기 어려운 이유는? | 스퍼터링으로 타겟의 표면 온도가 올라가 있는 상태에서 적외선 이미지를 촬영하기 위해서는 두가지 난점이 있다. 하나는 촬영에 사용되는 적외선의 파장이 8-14 μm로 길어서 특수한 재료(ZnSe)를 이용하여야 하며 본 연구와 같이 대면적 타겟의 경우 작은 시창으로는 넓은 면적을 촬영하기 곤란하다는 점이다. 또 증착에 의해서 표면의 방사율이 변화하므로 정확한 온도를 측정하기 어려운 점이 있다. 그림 8에는 스퍼터링 후 일정 시간 대기하고 진공 시스템을 대기 중에 노출시켜 놓은 상태에서 타겟부위의 온도 분포를 촬영한 결과를 나타내었다. | |
평판형 마그네트론 음극에 사용된 자석의 종류는? | 본 연구에 사용한 평판형 마그네트론 음극의 냉각판의 냉각 채널 구조는 그림 1에 나타낸 바와 같다. 자석의 종류는 Nd-Fe-B이며 여러 개의 사각형 조각 자석을 순철판 요크에 고정시켜서 사용하였다. 타겟의 배면부에는 전기동으로 제작한 냉각판이 있으며 3차원 유동과 열전달 해석에는 상용 multi-physics analysis 패키지인 CFD-ACE+를 사용하였다. |
J. Hupkes et al., Solar Energy Mat. Cells, 90 (2006) 3054
F. Ruske et al., Thin Solid Films, 502 (2006) 44
Y. M. Chung et al., Surf. Coat. Technol., 200 (2005) 936
Ed. David R. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 76th Edition, Chemical Rubber Publishing company, New York, (1995-1996), 12- 190
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