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NTIS 바로가기전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of electrical and electronic material engineers, v.21 no.12, 2008년, pp.1083 - 1089
이인환 (청주대학교 전자공학과) , 황창수 (공군사관학교 물리학과) , 김홍배 (청주대학교 전자정보공학부)
We studied the dielectric characteristics of low-k SiOCH thin films by Ellipsometry. The SiOCH thin films were prepared by deposition of BTMSM precursors on p-Si wafer by CCP-PECVD method. The nano-porous structural organic/inorganic hybrid-type of SiOCH thin films correlated directly to the formati...
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