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NTIS 바로가기한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집, 2012 Feb. 08, 2012년, pp.71 - 71
Choi, Chi-Kyu (Nano Thin Film Materials Laboratory, Department of Physics, Jeju National University)
As the critical dimensions of integrated circuits are scaled down, the line width and spacing between the metal interconnects are made smaller. The dielectric film used as insulation between the metal lines contributes to the resistance-capacitance (RC) time constant that governs the device speed. I...
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