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$0.13{\\mu}m$ RF CMOS 공정용 스케일러블 인덕터 모델링
Scalable Inductor Modeling for $0.13{\\mu}m$ RF CMOS Technology 원문보기

電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. TC, 통신, v.46 no.1 = no.379, 2009년, pp.94 - 101  

김성균 (성균관대학교 정보통신공학부) ,  안성준 (성균관대학교 정보통신공학부) ,  김병성 (성균관대학교 정보통신공학부)

초록
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본 논문에서는 RF 집적회로 설계를 위한 $0.13{\mu}m$ RF CMOS용 인덕터 라이브러리를 개발하였다. 스케일러블 모델링을 위해 선폭, 회전수, 내경을 조절하여 다수의 인덕터 패턴을 제작하고, 정확한 패드 효과 보상을 위해 급전 구조를 최적화하였다. 제작된 패턴의 S-파라미터 측정 데이터를 이용하여 각 소자별로 이중-$\pi$ 등가회로 소자값을 추출한 뒤 이 값들을 인덕터의 물리적 설계 변수의 함수로 표현하는 스케일러블 모델링을 수행하였다. 개발된 라이브러리는 표준(standard) 구조와 대칭(symmetric) 구조를 가지는 두 종류의 스케일러블 인덕터 모델을 제공하며, 모델 유효 주파수는 30GHz 또는 자기공진주파수까지이다. 표준구조 인덕터의 경우 $0.12{\sim}10.7nH$인덕턴스를, 대칭구조 인덕터의 경우는 $0.08{\sim}13.6nH$의 인덕턴스를 갖는다. 본 연구를 통해 최종적으로 10%이하의 오차를 가지는 RF CMOS용 인덕터 라이브러리를 완성하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This paper presents scalable modeling of spiral inductors for RFIC design based on $0.13{\mu}m$ RF CMOS process. For scalable modeling, several inductor patterns are designed and fabricated with variations of width, number of turns and inner radius. Feeding structures are optimized for ac...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 논문에서는 0.13伽 RF CMOS 공정을 이용하여스케일러블 인덕터 모델을 개발하였다. 개발된 인덕터모델은 10% 이하의 오차를 가지며, 자기공진주파수 또는 30冬也까지 유효하다.
  • 인덕터의 평면 구조는 원형, 팔각형, 사각형의 순서로 면적대비 인덕턴스 용량이 증가하나, 사각형, 팔각형, 원형 순으로 Q 값이 우수하기 때문에 팔각형 인덕터가 가장 많이 사용되고 있다. 본 논문에서는 0.13侧 RF CMOS 공정을 이용하여 팔각형 형태의 인덕터를 기본 구조로 하는 라이브러리를 개발하였다.
  • 집적회로는 칩 제작 후 수정이 거의 불가능 하고, 제작 시 많은 비용이 소요되기 때문에 칩 개발 시간 및 비용을 줄이기 위해서는 정확한 모델라이브러리가 필수적이다. 본 논문에서는 3例 두께의 구리 배선 공정을 제공하는 0.13/ffli RF CMOS 공정용인 덕 터 라이브러리 개발을 위한 모델링을 수행하였다. 모델링 과정은 다수의 인덕터 패턴을 제작하고, S 파라미터를 측정한 뒤 패드 효과를 제거한 후 개별 소자에 대한 소신호 등가회로 모델링과, 추출된 등가회로 파라미터를 다시 인덕터의 물리적 설계 변수의 함수로 표현하는 스케일러블 모델링 순서로 진행된다.
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참고문헌 (6)

  1. F. Huang and J. Lu, "Frequency-Independent Asymmetric Double-Equivalent Circuit for On-Chip Spiral Inductors : Physics-Based Modeling and Parameter Extraction," IEEE J. Solid-State Circuits, vol. 41, no. 10, pp. 2272?2283, Oct. 2006 

  2. A. C. Watson and D. Melendy, "A Comprehensive Compact-Modeling Methodology for Spiral Inductors in Silicon-Based RFICs," IEEE Trans. Microwave Theory Tech., vol. 52, no 3, pp. 849-857, Mar. 2004 

  3. Y. Cao and R. A. Groves, "Frequency- Independent Equivalent-Circuit Model for On-Chip Spiral Inductors," IEEE J. Solid-State Circuits, vol. 38, no. 3, pp. 419-426, Mar. 2003 

  4. S. S. Mohan and M. M. Hershenson, et al. "Simple Accurate Expressions for Planar Spiral Inductances," IEEE J. Solid-State Circuits, vol. 34, no. 10, pp. 1419-1424, Oct. 1999 

  5. A. Weisshaar, "Modeling of Interconnects and Spiral Inductors in Silicon RFICs," IMS Workshop, June. 2006 

  6. C. P. Yue and C. Ryu, "A Physical Model for Planar Spiral Inductors on Silicon," Electron Devices Meeting, Dec. 1996 

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