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NTIS 바로가기반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.8 no.4, 2009년, pp.43 - 48
The aim of this paper is to describe the development of the electron-beam optic analysis algorithm for simulating the e-beam behavior concerned with electrostatic lenses and their focal properties in the micro-column of the multi-beam lithography system. The electrostatic lens consists of an array o...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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다중 전자빔 리소그래피 장비를 구성하기 위해 어떠한 개발이 필요한가? | 다중 전자빔 리소그래피 장비를 구성하기 위하여 초소형 전자 컬럼(micro-column)의 개발이 필요하다. 마이크로 컬럼을 설계하기 위하여 우선적으로 요구되는 기술은 전자빔의 거동에 대한 광학적 해석 기술과 전자 렌즈에 가해지는 전압의 크기, 가공 물체와 전자 렌즈 사이의 거리(working distance) 등 여러가지 설계 변수들의 최적화가 요구된다[3]. | |
다중빔 리소그래피는 어떠한 공정으로 초미세 부품의 생산 원가를 절감할 수 있는가? | 다중빔 리소그래피는 대상물(substrate)을 빠르게 노광(exposure)하기 위하여 다수의 초소형 칼럼을 피삭재의 범위 내에서 병렬로 배열하여 배열한 칼럼의 숫자만큼 생산성을 향상시키는 방안이다. 마스크 없이(maskless) 직접 노광(direct writing)하여 패턴을 가공하는 단순한 생산 공정으로 초미세 부품의 생산 원가를 절감할 수 있으며, 동시에 다수의 가공을 진행함으로써 고생산성의 다중 전자빔 장비를 실현할 수 있다. | |
다중빔 리소그래피란 어떠한 방안인가? | 다중빔 리소그래피는 대상물(substrate)을 빠르게 노광(exposure)하기 위하여 다수의 초소형 칼럼을 피삭재의 범위 내에서 병렬로 배열하여 배열한 칼럼의 숫자만큼 생산성을 향상시키는 방안이다. 마스크 없이(maskless) 직접 노광(direct writing)하여 패턴을 가공하는 단순한 생산 공정으로 초미세 부품의 생산 원가를 절감할 수 있으며, 동시에 다수의 가공을 진행함으로써 고생산성의 다중 전자빔 장비를 실현할 수 있다. |
T. H. P. Chang, Marian Mankos, Kim Y. Lee, Larry
M. J. van Bruggen, B. van Someren, P. Kruit, “Electron
Young Chul Kim, Dae-Wook Kim, Seungjoon Ahn,
Omer Sise, David J Manura, Mevlut Dogan, “Exploring
V Ovalle, D R Otomar, J M Pereira, N Ferreira, R R
T. H. P. Chang, D. P. Kern, L. P. Muray, “Miniature
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