최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.9 no.1, 2010년, pp.17 - 21
Currently miniaturized electron-optical columns find their way into electron beam lithography systems. For better lithography process, it is required to make smaller spot size and longer working distance. But, the micro-columns of the multi-beam lithography system suffer from chromatic and spherical...
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
---|---|---|
전자 방출원의 역할은? | 다중 전자빔 리소그래피 장비를 구성하는 마이크로 칼럼은 최상단에 위치한 이른반 전자 팁(emitting tip)으로 흔히 불리우는 전자 방출원(electron emitting source)으로부터 전자가 방출되며, 방출된 전자는 마이크로칼럼 내에 위치한 전자 렌즈를 지나 공작물에 도달하게 된다[3]. 전자 방출원은 전자를 마이크로 칼럼 내에 투입하기 위한 역할을 하며, 가열된 필라멘트(heated filament)나 전장 내에 놓인 팁(field emitted tip)의 형태가 일반적이다[4,5]. 전자 방출원은 수명을 가지며 공정 운영 중에 정기적으로 교체해 주어야 하는 소모품이다. | |
다중 칼럼 전자빔 리소 그래피 가공이란? | 최근 전자빔 기술을 초미세 부품생산에 확대 적용하기 위하여 효율성을 증대하는 방안으로서 저에너지, 소형화 그리고 다중 칼럼(multi-column)화의 방향으로 개발이 이루어지는 추세이다[1]. 다중 칼럼 전자빔 리소 그래피 가공은 대상물을 빠르게 노광(exposure)하기 위하여 다수의 초소형 칼럼을 병렬로 배열하여 칼럼의 숫자만큼 생산성을 향상시키는 방안이다. 마스크 없이 (maskless) 직접 노광(direct writing)하여 패턴을 가공 하는 단순한 생산 공정으로 초미세 부품의 생산 원가를 절감할 수 있으며, 동시에 다수의 가공을 진행함으로써 고생산성의 다중 전자빔 가공을 실현할 수 있다[2]. | |
다중 칼럼 전자빔 리소 그래피 가공의 장점은? | 다중 칼럼 전자빔 리소 그래피 가공은 대상물을 빠르게 노광(exposure)하기 위하여 다수의 초소형 칼럼을 병렬로 배열하여 칼럼의 숫자만큼 생산성을 향상시키는 방안이다. 마스크 없이 (maskless) 직접 노광(direct writing)하여 패턴을 가공 하는 단순한 생산 공정으로 초미세 부품의 생산 원가를 절감할 수 있으며, 동시에 다수의 가공을 진행함으로써 고생산성의 다중 전자빔 가공을 실현할 수 있다[2]. |
T.H.P. Chang, Marian Mankos, Kim Y. Lee, Larry P. Muray, "Multiple electron-beam lithography," Microelectronic Engineering, Vol. 57-58, pp.117-135, 2001.
M. J. van Bruggen, B. van Someren, P. Kruit, "Electron optics of skewed micro-Einzel lense,", Journal of Vacuum Science B, vol. 27, no. 1, pp.139-147, 2009.
이응기, "다중빔 리소그래피를 위한 초소형 컬럼의 전자빔 광학 해석에 관한 연구," 한국반도체및디스플레이장비학회지, 제8권, 제4호, pp.43-48, 2009.
E. Sugata, and H. Hamada, "Studies of Electron Gun for Electron Microscope by Resistance Network Analog", Journal of Electronmicroscopy, Vol. 8, pp. 4-7, 1959
E. Munro, X. Zhu, M. R. Smith, S. R. Desbruslais, and J. A. Rouse, "Field computation Techniques in Electron Optics", IEEE Transactions on Magnetics, vol. 26, no. 2, pp. 1019-1022, 1990
M. J. van Bruggen, B. van Someren, and P. Kruit, "Electron optics of skewed micro-Einzel lenses", Journal Vacuum Science Technology B, vol. 27, no. 1 pp. 139-147, 2009
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.