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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.21 no.12, 2011년, pp.639 - 643
김대희 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학부) , 이가원 (충남대학교 전자공학과) , 김영철 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학부)
Zinc oxide as an optoelectronic device material was studied to utilize its wide band gap of 3.37 eV and high exciton biding energy of 60 meV. Using anti-site nitrogen to generate p-type zinc oxide has shown a deep acceptor level and low solubility. To increase the nitrogen solubility in zinc oxide, ...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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산화 아연이란? | 산화 아연(zinc oxide, ZnO)은 상온에서 3.37 eV의 넓은 밴드갭(band gap)과 60 meV의 큰 엑시톤 결합 에너지(exciton binding energy)를 갖는 II-VI족 화합물로서, 발광 다이오드(light emitting diode, LED)나 레이저 다이 오드(laser diode, LD)와 같은 광전자 소자(optoelectronic device)로 널리 연구되고 있다.1-3) 도핑되지 않은 ZnO의 n-type 특성은 제조 과정에서 생성되는 점 결함(native point defect)으로 설명하고 있으나 아직 정확한 이론은 없다. | |
ZnO에서 N의 용해도를 증가시키기 위해 제시된 방법은? | ZnO에서 N의 용해도를 증가시키기 위하여, Zn 자리에 치환되어 donor로 작용하는 III족 원소를 N과 함께 첨가하는 방법이 소개되었다.19) III족 원소인 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In)은 N 주변에 위치하여 질화 알루미늄 (aluminum nitride, AlN), 질화 갈륨(gallium nitride, GaN), 질화 인듐(indium nitride, InN)을 이루어 N의 용해도를 증가시키며, 제조법으로 radio frequency (RF) magnetron sputtering, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), pulsed laser deposition (PLD), ultrasonic spray pyrolysis 등의 방법이 주로 사용되고 있다. | |
ZnO 내부에서 N의 용해도를 증가시키기 위한 Al의 효과를 하이브리드 함수를 포함하는 DFT를 이용하여 수행한 결과는? | 본 연구는 ZnO 내부에서 N의 용해도를 증가시키기 위한 Al의 효과를 하이브리드 함수를 포함하는 DFT를 이용하여 수행하였다. 계산된 ZnO의 밴드갭은 3.36 eV로 실험값과 잘 일치하였다. N2 분위기보다 NO 분위기에서 Al 주변에 N이 잘 형성되었다. ZnO 내부에서 Al은 N의 용해도 증가에 도움을 주지만, 여전히 깊은 acceptor level 에 의해 p-type 기구로는 작용하지 않는다. |
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