최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기Transactions on electrical and electronic materials, v.13 no.6, 2012년, pp.287 - 291
Woo, Jong-Chang (School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University) , Joo, Young-Hee (School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University) , Kim, Chang-Il (School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University)
We investigated the etching characteristics of TaN thin films in an
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
G. D. Wilk, E. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
T. Kitagawa, K. Nakamura, K. Osari, K. Takahashi, K. Ono, M. Oosawa, S. Hasaka, and M. Inoue, Jpn. J. Appl. Phys. 45, L297 (2006).
A. I. Kingon, J. I. Maria, and S. K. Streiffer, Nature. 406, 1032 (2000).
H. Shimada, and K. Maruyama, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 1768 (2004).
A. L. Gouil, O. Joubert, G. Cunge, T. Chevolleau, L. Vallier, B. Chenevier, and I. Mitko, J. Vac. Sci. Technol. B 25, 767 (2007).
R. Ramos, G. Cunge, and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 181 (2008).
Q. Xie, X. P. Qu, J. J. Tan, Y. L. Jiang, M. Zhou, T. Chen, and G. P. Ru, Appl. Surf. Sci. 253, 1666 (2006).
A. Furuya, E. Soda, M. Shimada, and S Ogawa, Jpn. J. Appl. Phys. 44, 7430 (2005).
M. S. Jo, S. H. Kim, J. M. Lee, S. J. Jung, and J. B. Park, Appl. Phys. Lett. 96, 142110 (2010).
V. Bliznetsov, r. kumar, L. K. Bera, L. W. Yip, A. du, and T. E. Hui, Thin Solid Films 504, 140 (2006)
J. H. Ko, D. Y. Kim, M. S. Park, N. E. Lee, S. S. Lee, J. H. Ahn, and H. S. Mok, J. Vac. Sci. Technol. A 25, 990 (2007).
V. Bliznetsov, R. Kumar, L. K. Bera, L. W. Yip, A. Du, and T. E. Hui, Thin Solid Films 504, 140 (2006).
T. Kitagawa, K. Nakamura, K. Osari, K. Takahashi, K. Ono, M. Oosawa, S. Hasaka, and M. Inoue, Jap. J. appl. Phys. 45, L297 (2006)
J. C. Woo, D. S. Um, and C. I. Kim, Thin Solid Fimls 518, 2905 (2010).
G. H. Kim, K. T. Kim, D. P. Kim, and C. I. Kim, Thin Solid Films 475, 86 (2005).
J. Chen, W. J. Yoo, Z. Y. Tan, Y. Wang, and D. S. H. Chan, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 1552 (2004).
J. Tonotani, T. Iwamoto, F. Sato, K. Hattori, S. Ohmi, and H. Iwai, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2163 (2003).
W. S. Hwang, J. Chen, W. J. Yoo, and V. Bliznetsov, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 964 (2005).
G. H. Kim, C. I. Kim, and A. M. Efremov, Vacuum 79, 231 (2005)
A. M. Efremov, D. P. Kim, C. I. Kim, Thin Solid Films 435, 83 (2003)
H. K. Kim, J. W. Bae, T. K. Kim, K. K. Kim, T. Y. Seong, and I. Adesida, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 1273 (2003).
H. Helot, T. Chevolleau, L. Vallier, O. Joubert, E. Blanquet, A. Pisch, P. Mangiagalli, and T. Lill, J. Vac. Sci. Technol. A 24, 30 (2006).
M. H. Shin, S. W. Na, N. E. Lee, and J. H. Ahn, Thin Solid Films 506-507, 230 (2006)
B. H. Lee, K. Kang, W. J. Qi, R. Nich, Y. Jem, K. Onishi, and J. C. Lee, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet. 149, 133 (1999).
C. N. Kirchner, K. H. Hallmeier, R. Szargan, T. Raschke, C. Radehaus, and G. Wittstock, Electroanalysis 19, 1023 (2007).
S. H. N. Lim, D. G. McCulloch, M. M. M. Bilek, D. R. McKenzie, J. Plessis, M. V. Swain, and R. Wuhrer, Surf. Coat. Technol. 201, 396 (2006).
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
저자가 APC(Article Processing Charge)를 지불한 논문에 한하여 자유로운 이용이 가능한, hybrid 저널에 출판된 논문
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.