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[국내논문] 반도체 포토 장비의 시뮬레이션 소프트웨어: TrackSim
Simulation Software for Semiconductor Photolithography Equipment: TrackSim 원문보기

한국산학기술학회논문지 = Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society, v.13 no.8, 2012년, pp.3319 - 3325  

윤현중 (대구가톨릭대학교 기계자동차공학부) ,  김진곤 (대구가톨릭대학교 기계자동차공학부)

초록
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본 논문은 반도체 포토장비의 이산 이벤트 시뮬레이터인 TrackSim의 개발에 관한 것이다. TrackSim은 포토 장비의 시뮬레이션 엔진과 사용하기 쉬운 사용자 환경을 포함하는 시뮬레이터로, 다양한 프로세스 모듈의 구성 및 운영 방법을 효율적으로 평가, 검증, 스케쥴링할 수 있는 3차원 시뮬레이션 환경을 제공한다. TrackSim은 반도체 산업에서 많이 사용되는 이산 사건 시뮬레이션 소프트웨어인 AutoMod를 기반으로 개발되어 시뮬레이션 신뢰성이 보장되며, AutoMod로 개발된 반도체 제조라인 시뮬레이션 모델 속에 함께 연동하여 사용이 가능하다는 특징이 있다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This paper describes the development of the TrackSim, which is a discrete event simulation tool for photolithography equipment of semiconductor industry. The TrackSim is focused on the accurate simulation model of the photolithography equipment and easy-to-use user interfaces. TrackSim provides 3D s...

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  • 2) It has the advanced scheduler that generates a deadlock-free schedule in spite of machine breakdowns.
  • Among them, the throughput is one of the best well known performance measures of the track system [3, 6], and Akcalt et al. [1] insist that reduction of the cycle time in photolithography process reduce overall fab cycle time. However, it is very difficult to analyze the performance indices of photolithography equipment through mathematical approaches because of its complex process flow and near-infinite tool configuration possibilities.
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참고문헌 (11)

  1. E. Akcalt, K. Nemoto, and R. Uzsoy, "Cycle-Time Improvements for Photolithography Process in Semiconductor Manufacturing," IEEE Trans. on Semicond. Manufact, Vol. 14, No. 1, pp. 48-56, 2001. 

  2. M. Bich, "Trends in Track System Architecture," Solid State Technology, Vol. 38, No. 5, pp. 83-86, May 1995. 

  3. A.E. Braun, "Track Systems Meet Throughput and Productivity Challenges," Semiconductor International, Feb. 1998. 

  4. J.H. Lee and H.J. Lee, "A Study of Semiconductor Process Simulator with User Friendly Framework," Journal of the Korea Academia-Industrial Cooperation Society, Vol. 5, No. 4, pp. 331-335, 2004 

  5. J.H. Lee and H.J. Lee, "A Study of Semiconductor Process Simulation Framework," in Proceedings of the KAIS Spring Conference, pp. 165-167, June 2004. 

  6. H.M. Magoon, P.H.Mitchell, "Throughput Monitoring to Track and Improve Semiconductor Lithography Equipment Performance," in Proc. IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, Boston, MA, USA, Sept. 8-10, 1999, pp. 48-53. 

  7. M. Rohrer, "AutoMod Product Suite Tutorial," in Proc. the 1999 Winter Simulation Conference, Phoenix, AZ, USA, Dec. 5-8, 1999, pp. 220-226. 

  8. J. Suh, "A Layout Comparison Study for Improving Semiconductor Fab System," Journal of the Korea Academia-Industrial Cooperation Society, Vol. 10, No. 5, pp. 1074-1081, 2009. 

  9. H.J. Yoon and D.Y. Lee, Identification of Potential Deadlock Set in Semiconductor Track Systems," in Proc. the 2001 IEEE Int. Conf. on Robotics and Automat., Seoul, Korea, May 21-26, 2001. 

  10. H.J. Yoon and D.Y. Lee, "Deadlock-Free Scheduling of Photolithography Equipment in Semiconductor Fabrication," IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 17, No. 1, pp. 42-54, 2004.. 

  11. P.V. Zant, Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Processing. New York: McGraw-Hill, 1997 (3rd edition). 

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