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스핀 코팅에서의 액막의 흐름
The Flow of a Liquid Film on Spin Coating 원문보기

한국액체미립화학회지 = Journal of ilass-korea, v.18 no.3, 2013년, pp.146 - 154  

김태성 (삼성SDI 생산기술연구팀)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The flow of a liquid film on spin coating is investigated in the case that the fixed volume of a liquid is placed on the center of a stationary disk. Thin film equations that are well approximated when the characteristic length in the vertical direction is much smaller than that in the radial direct...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 박막근사방정식을 도입하고 이를 이용하여 기본흐름을 연구한다. 이 박막근사방정식은 T.
  • 또 초기 액막두께 가 매우 작은 경우 액막두께의 시간적, 공간적 변화를 기술하는 두께방정식을 박막두께 방정식을 사용하여 유도하였다. 이 두께방정식도 초기 액막두께가 매우 작을 때 균일액막에 대한 NavierStokes 방정식의 해와 대단히 좋은 일치를 보이는 결과를 제공한다.
  • 초기의 액막두께가 균일하지 않은 몇가지 경우에 대하여 시간이 지남에 따라 액막의 두께가 어떻게 변화하는가를 살펴보기로 한다. 축대칭의 정상회전일 때 H0를 parameter로 하여 다음의 초기조건에 대해 박막근사방정식을 사용하여 비균일두께의 액막흐름을 수치적으로 해석한 결과를 Fig.

가설 설정

  • 여기서 r-방향의 속도 u를 4차식 대신에 흘러내리는 액막흐름 등을 고찰할 때 사용된 근사와 닮은 2차식으로 가정할 수 있는데 (2차식근사; quadratic approximation) 그 경우에는 β1 = 1 β2 = 3 이다.
  • 여기서 원판은 z-축을 회전축으로 Ω의 각속도로 회전하는 것으로 가정하였고 u, v, w 및 p는 각각 r-방향, θ-방향, z-방향의 속도 및 유체의 압력이다.
  • 이라 가정하도록 한다. 액막의 두께가 균일하지 않을 때에는 중력과 표면장력 즉 Froude 수 F−1와 Weber 수 의 영향이 나타나게 된다.
  • 제안된 근사방정식이 회전원판 위의 액막흐름을 잘 기술하고 있는지는 가정한 수평방향의 속도분포가 실제 흐름을 얼마나 잘 근사시키고 있는가에 달려 있다. Fig.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
스핀 코팅이란? 스핀 코팅은 평평한 원판 위에 균일하고 얇은 막을 생성하는 가장 간단하고 많이 쓰이는 기술로 모니터 스크린이나 광학 기구의 코팅, 자기 기억 장치에서의 코팅, 반도체 산업에서의 photolithographic process에서의 코팅 등의 여러 가지 분야에서 응용된다(1,2).
초기 액막두께 가 매우 작은 경우 액막두께의 시간적, 공간적 변화를 기술하는 두께방정식을 박막두께 방정식을 사용하여 얻은 결과는? 또 초기 액막두께 가 매우 작은 경우 액막두께의 시간적, 공간적 변화를 기술하는 두께방정식을 박막두께 방정식을 사용하여 유도하였다. 이 두께방정식도 초기 액막두께가 매우 작을 때 균일액막에 대한 NavierStokes 방정식의 해와 대단히 좋은 일치를 보이는 결과를 제공한다.
스핀 코팅은 어떤 분야에서 응용되는가? 스핀 코팅은 평평한 원판 위에 균일하고 얇은 막을 생성하는 가장 간단하고 많이 쓰이는 기술로 모니터 스크린이나 광학 기구의 코팅, 자기 기억 장치에서의 코팅, 반도체 산업에서의 photolithographic process에서의 코팅 등의 여러 가지 분야에서 응용된다(1,2).
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참고문헌 (8)

  1. B. D. Washo, "Rheology and modeling of the spin coating process", IBM J. Res. Dev., Vol. 21, 1977, pp. 190-198. 

  2. Taku Ohara, Yochiro Matsumoto and Hideo Ohashi, "The film formation dynamics in spin coating", Phys. Fluids A, Vol. 1, No. 12, 1989, pp. 1949-1959. 

  3. A. G. Emslie, F. T. Bonner and L. G. Peck, "Flow of a viscous liquid on a rotating disk", J. Appl. Phys., Vol. 29, No. 5, 1957, pp. 858-862. 

  4. B. G. Higgins, "Film flow on a rotating disk", Phys. Fluids, Vol. 29, No. 11, 1986, pp. 3522-3529. 

  5. T. J. Rehg and B. G. Higgins, "The effects of inertia and interfacial shear on film flow on a rotating disk", Phys. Fluids, Vol. 31, No. 6, 1988, pp. 1360-1371. 

  6. A. Kitamura, "Asymptotic solution for film flow on a rotating disk", Phys. Fluids, Vol. 12, No. 8, 2000, pp. 2141-2144. 

  7. B. Reisfeld, S. G. Bankkoff and S. H. Davis, "The dynamics and stability of thin liquid film during spin coating. I. Films with constant rates of evaporation or absorption", J. Appl. Phys., Vol. 70, No. 10, 1991, pp. 5258-5266. 

  8. T.-S. Kim and M.-U. Kim, "The flow and hydrodynamic stability of a liquid film on a rotating disc", Fluid Dyn. Res., Vol. 41, No. 3, 2009, pp. 035504. 

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