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NTIS 바로가기한국결정성장학회지 = Journal of the Korean crystal growth and crystal technology, v.24 no.6, 2014년, pp.246 - 251
이송희 (웅진에너지(주)) , 김성태 (웅진에너지(주)) , 오병진 (웅진에너지(주)) , 조용래 (웅진에너지(주)) , 백성선 (웅진에너지(주)) , 육영진 (웅진에너지(주))
Recent studies have shown methods of improving solar cell efficiency. Especially on single crystalline silicon wafer which is high-efficiency solar cell material that has been widely studied. Interstitial oxygen (Oi) is the main impurity in the Czochralski (Cz) growing method, and excess of this can...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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산소석출결함은 어떤 문제를 야기하는가? | 산소불순물은 실리콘 결정 내에 Interstitial 자리에서 실리콘원자 두 개와 공유결합을 이루고 있으며,산소불순물의 농도가 일정치 이상이 되면 잉곳 성장과정이나 태양전지 공정에서 산소석출결함을 생성한다[2-4]. 일반적으로 산소석출결함은 양전하와 재결합하여 P형실리콘에서 lifetime을 감소시켜 셀효율에도 악영향을 미치는 것으로 알려져 있다[5]. 그러나 산소석출결함과 셀효율의 상관성을 양산 공정 스케일에서 더욱 명확하게 밝힐 필요가 있으며, 산소석출결함이 발생하는 산소농도의 critical point를 찾을 필요성이 있다. | |
산소불순물은 무엇을 생성하는가? | 산소는 단결정 실리콘 성장법인 Cz(Czochralski) 법으로 성장시킨 실리콘의 주된 불순물로 Quartz 도가니로부터 발생된다. 산소불순물은 실리콘 결정 내에 Interstitial 자리에서 실리콘원자 두 개와 공유결합을 이루고 있으며,산소불순물의 농도가 일정치 이상이 되면 잉곳 성장과정이나 태양전지 공정에서 산소석출결함을 생성한다[2-4]. 일반적으로 산소석출결함은 양전하와 재결합하여 P형실리콘에서 lifetime을 감소시켜 셀효율에도 악영향을 미치는 것으로 알려져 있다[5]. | |
산소석출결함이 셀효율의 영향에 미치는 영향을 연구한 결과는 무엇인가? | 초기 산소농도를 다르게 한, 두 개 잉곳의 산소석출결함 농도를 분석하였고, 그에 따른 셀효율의 영향을 확인하고자 하였다. 연구결과, 동일 저항간 비교했을 때 산소석출결함이 많은 잉곳의 셀효율이 0.1~0.2 %가량 하락함을 확인하였다. 이는 산소석출결함이 양전하와 재결합하여 P형 실리콘에서 lifetime을 감소시키고, 이에 따라Jsc와 Voc가 감소하여 셀효율에 악영향을 주는 것으로 판단된다. |
C.M. Park, J.M. Cho, Y. Lee, J. Park, M. Ju, Y.J. Lee and J. Yi, "Technology trends and prospects of silicon solar cells", Current Photovoltaic Research 1 (2013) 11.
R.C. Newman, "Oxygen diffusion and precipitation in Czochralski silicon", J. Phys.: Condens. Matter 12 (2000) R335.
W. Huber and M. Pagani, "The behavior of oxygen precipitates in silicon at high process temperature", J. Electrochem Soc. 137 (1990) 3210.
B.M. Park, G.H. Seo and G. Kim, "Effect of a macro-scopic fluctuation in pulling rate on the formation of grown-in defects in Cz-Si single crystal", Korean J. Crystallography 4 (2000) 200.
J.M. Hwang and D.K. Schroder, "Recombination properties of oxygen-precipitated silicon", J. Appl. Phys. 59 (1986) 2476.
W. Lin, "Oxygen in Silicon", F. Shimura Ed., Vol. 42 (Academic Press, San diego, 1994) p. 34.
S.H. Lee, "Multiscale modeling of point defect dynamics in a silicon crystal", KAIST doctoral Thesis (2010).
P.E. Freeland, K.A. Jackson, C.W. Lowe and J.R. Patel, "Precipitation of oxygen in silicon", Appl. Phys. Lett. 30 (1977) 31.
E. Martinez, J. Plans and F. Yndurain, "Atomic oxygen in silicon: the formation of the SiO-Si bond", Phys. Rev. B 36 (1987) 8043.
B.Y. Lee, D.H. Hwang, H.D. Yoo and O.J. Kwon, "Study on oxygen precipitation behavior in Si wafers", Korean J. Crystallography 1 (1999) 84.
L. Chen, X. Yu, P. Chen, P. Wang, X. Gu, J. Lu and D. Yang, "Effect of oxygen precipitation on the performance of Czochralski silicon solar cells", Solar Energy Materials & Solar Cells 95 (2011) 3148.
M. Miyagi, K. Wada, J. Osaka and N. Inoue, "Effect of oxide precipitates on minority-carrier lifetime in czochralski-grown silicon", Appl. Phys. Lett. 40 (1982) 719.
M. Porrini and P. Tessariol, "Minority carrier lifetime of p-type silicon containing oxygen precipitates: influence of injection level and precipitate size/density", Mater. Sci. Eng. B-Solid State Mater Adv. Technol. 73 (2000) 244.
L. Valek and J. Sik, "Modern Aspects of Bulk Crystal and Thin Film Preparation: Chapter 3", N. Kolesnikov and E. Borisenko, Ed. (InTech, 2012) p. 59.
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