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하이브리드 자외선 노광법을 이용한 3차원 고종횡비 미소구조물 제작
Hybrid UV Lithography for 3D High-Aspect-Ratio Microstructures 원문보기

大韓機械學會論文集. Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A. A, v.40 no.8, 2016년, pp.731 - 736  

박성민 (인하대학교 기계공학과) ,  남경목 (인하대학교 기계공학과) ,  김종훈 (인하대학교 기계공학과) ,  윤상희 (인하대학교 기계공학과)

초록
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본 연구에서는 의용생체공학에 널리 사용되는 미소바늘과 같은 3차원 고종횡비 미소구조물을 용이하게 제작할 수 있는 하이브리드 자외선 노광법에 대해 기술한다. 하이브리드 자외선 노광법은 기존에 사용되고 있는 경사노광, 회전노광 및 역노광을 혼합한 방법으로, 경사 및 회전노광은 경사진 축대칭 형상을 가지는 3차원 미소구조물의 제작이 가능하도록 하고 역노광은 자외선 노광공정 중 필연적으로 발생하는 하부기판에서의 자외선 반사를 최소화 시킨다. 자체 개발한 자외선 노광시스템과 SU-8 음성감광제를 이용하여 하이브리드 자외선 노광법의 다양한 공정조건이 최종 제작된 3차원 고종횡비 미소구조물 형상(종횡비, 선단의 곡률반경 등)에 미치는 효과를 확인한다. 또한 SU-8의 소프트 베이킹(soft baking) 조건과 미소구조물 선단 형상 사이의 관계에 대해서도 논의한다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Three-dimensional (3D) high-aspect-ratio (HAR) microstructures for biomedical applications (e.g., microneedle, microadhesive, etc.) are microfabricated using the hybrid ultraviolet (UV) lithography in which inclined, rotational, and reverse-side UV exposure processes are combined together. The incli...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • (6)마지막으로 역노광 기반 미소공정은 감광제와 마스크 사이에 접촉을 견고하게 할 수 있지만 정적 수직방향 노광방식이므로 단면형상이 직사각형 모양을 가지는 미소구조물만 제작할 수 있었다.(7)본 연구에서는 기존 자외선 노광방법들이 가지는 공정 중 기술적 한계를 극복하기 위하여 경사노광, 회전노광 및 역노광을 혼합한 하이브리드 자외선 노광법을 개발한다. 하이브리드 자외선 노광법에서는 3차원 고종횡비 미소구조물을 제작하기 위하여 필름 마스크 위에 감광제를 스핀 코팅(spin coating)한 후 필요에 따라 추가적으로 제작기판을 적층한다(역노광).
  • 본 연구에서는 미소바늘과 같은 3차원 고종횡비 미소구조물을 용이하게 제작할 수 있는 하이브리드 자외선 노광법을 개발하였다. 이를 기초로 자체 개발한 자외선 노광시스템과 SU-8 2150음성감광제를 이용하여 3차원 고종횡비 미소구조물을 제작함으로써 관련 공정조건(하부기판 조건, SU-8 소프트 베이킹 시간, 자외선 조사각도 등) 이 최종 제작된 미소구조물 형상(종횡비, 선단의 곡률반경 등)에 미치는 영향을 확인하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
자외선 노광법이 3차원 미소기전복합시스템 제작에 널리 사용되는 이유는? 자외선 노광법은 X선 또는 레이저 노광법에 비해 상대적으로 저가의 장비를 이용하고 마스크 (mask) 제작이 용이하기 때문에 3차원 미소기전복합시스템(microelectromechanical systems, MEMS) 제작에 널리 사용되고 있다. 1,2) 기존 자외선 노광 법은 제작기판의 수직 상방에 위치한 자외선 광원으로 노광하는 방식이었기 때문에 제작기판에 수직한 단면형상을 가지는 2차원 미소구조물만 제작할 수 있었다.
경사노광, 회전노광, 역노광 기반 노광 방법들의 단점은 무엇인가? (3) 지금까지 기존 자외선 노광 법의 한계를 극복하기 위해 다양한 형태의 자외선 노광방법(경사노광, 회전노광, 역노광 등)이 개발되어 왔다. 4,5) 그러나 경사노광의 경우에는 3차원 고종횡비 미소구조물을 제작하기 위해 최소 2번 이상의 노광공정이 요구되고 감광제 최상단면의 낮은 평탄도로 인해 진공접촉모드를 사용하더라도 마스크와의 밀착이 어려워 미소구조물 형상의 정확도가 떨어지는 문제점이 있었다. 회전노광의 경우에는 필요한 노광공정의 횟수를 줄일수 있지만 이 방법 역시 감광제와 마스크 사이의 접촉문제를 가지고 있는 것으로 알려져 있다.(6)마지막으로 역노광 기반 미소공정은 감광제와 마스크 사이에 접촉을 견고하게 할 수 있지만 정적 수직방향 노광방식이므로 단면형상이 직사각형 모양을 가지는 미소구조물만 제작할 수 있었다.(7)본 연구에서는 기존 자외선 노광방법들이 가지는 공정 중 기술적 한계를 극복하기 위하여 경사노광, 회전노광 및 역노광을 혼합한 하이브리드 자외선 노광법을 개발한다.
하이브리드 자외선 노광법이란? 본 연구에서는 의용생체공학에 널리 사용되는 미소바늘과 같은 3차원 고종횡비 미소구조물을 용이하게 제작할 수 있는 하이브리드 자외선 노광법에 대해 기술한다. 하이브리드 자외선 노광법은 기존에 사용되고 있는 경사노광, 회전노광 및 역노광을 혼합한 방법으로, 경사 및 회전노광은 경사진 축대칭 형상을 가지는 3차원 미소구조물의 제작이 가능하도록 하고 역노광은 자외선 노광공정 중 필연적으로 발생하는 하부기판에서의 자외선 반사를 최소화 시킨다. 자체 개발한 자외선 노광시스템과 SU-8 음성감광제를 이용하여 하이브리드 자외선 노광법의 다양한 공정조건이 최종 제작된 3차원 고종횡비 미소구조물 형상(종횡비, 선단의 곡률반경 등)에 미치는 효과를 확인한다.
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참고문헌 (12)

  1. Barber, R. L., Ghantasala, M. K., Divan, R., Vora, K. D., Harvey, E. C. and Mancini, D. C., 2005, "Optimisation of SU-8 Processing Parameters for Deep X-ray Lithography," Microsys. Technol., Vol. 11, pp. 303-310. 

  2. Park, J. H., Allen, M. G. and Prausnitz, M. R., 2005, "Biodegradable Polymer Microneedles: Fabrication, Mechanics and Transdermal Drug Delivery," J. Control. Release, Vol. 104, pp. 51-66. 

  3. Behrmann, G. P. and Duignan, M. T., 1997, "Excimer Laser Micromachining for Rapid Fabrication of Diffractive Optical Elements," Appl. Opt., Vol. 36, pp. 4666-4676. 

  4. Yoon, Y. K., Park, J. H. and Allen, M. G., 2006, "Multidirectional UV Lithography for Complex 3-D MEMS Structures," J. Microelectromech. Syst., Vol. 15, pp. 1121-1130. 

  5. Park, J. H. and Prausnitz, M. R., 2010, "Analysis of Mechanical Failure of Polymer Microneedles by Axial Force," J. Korean Phys. Soc., Vol. 56, No. 4, pp. 1223-1227. 

  6. Dill, F. H., Hornberger, W. P., Hauge, P. S. and Shaw, J. M., 1975, "Characterization of Positive Photoresist," IEEE Trans. on Electron Devices, Vol. ED-22, No. 7, pp. 445-452. 

  7. William, J. D. and Wang, W., 2004, "Study on the Postbaking Process and the Effects on UV Lithography of High Aspect Ratio SU-8 Microstructures," J. Microlithogr. Microfabr. Microsyst., Vol. 3, No. 4, pp. 563-568. 

  8. Lin, C.-H., Yeh, W.-T., Chan, C.-H. and Lin, C.-C., 2012, "Influence of Graphene Oxide on Metal-insulator Semiconductor Tunneling Diodes," Nanoscale Res. Lett., Vol. 7, No. 1, p. 343. 

  9. Campo, A. D. and Greiner, C., 2007, "SU-8: a Photoresist for High-aspect-ratio and 3D Submicron Lithography," J. Micromech. Microeng, Vol. 17, pp. R81-R95. 

  10. Liu, G., Tian, Y. and Kan, Y., 2005, "Fabrication of High-aspect-ratio Microstructures Using SU-8 Photoresist," Microsys. Technol., Vol. 11, pp. 343-346. 

  11. Becnel, C., Desta, Y. and Kelly, K., 2005, "Ultradeep X-ray Lithography of Densely Packed SU-8 Features: I. An SU-8 Casting Procedure to Obtain Uniform Solvent Content with Accompanying Experimental Results," J. Micromech. Microeng, Vol. 15, pp. 1242-1248. 

  12. https://www.microchem.com 

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