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연합인증

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경사 노광기 및 경사 노광방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • G02F-001/13
출원번호 10-2003-0045002 (2003-07-03)
공개번호 10-2005-0003629 (2005-01-12)
등록번호 10-0550537-0000 (2006-02-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020030045002
발명자 / 주소
  • 오현석 / 경기도수원시팔달구영통동벽적골태영***-****
  • 박석호 / 서울특별시송파구풍납*동***-*우성아파트*동***호
  • 최영준 / 서울특별시관악구봉천**동****-*은천아파트***-***
  • 한장식 / 서울특별시관악구신림*동****우방아파트***-***
출원인 / 주소
  • 엘지전자 주식회사 / 서울특별시 영등포구 여의도동 **번지
대리인 / 주소
  • 박병창 (PARK, Byung Chang)
  • 서울 강남구 역삼동 ***-** 동주빌딩 *층(팍스국제특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2003-07-03)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 포토 레지스트가 도포된 기판에 마스크를 통하여 광원을 조사함으로 기판에 경사 구조물 형태의 패턴을 형성시킬 수 있는 노광기 및 노광방법에 관한 것으로서, 특히 기판과 마스크가 조사되는 광원에 대해 수직 이동되는 동시에 회전 이동시킴으로 기판에 연속적으로 각도가 변화되는 경사 구조물 형상의 패턴을 형성시킬 수 있기 때문에 다양한 형상의 패턴을 형성시킬 수 있는 이점이 있다.

대표청구항

포토 레지스트가 도포된 기판이 장착되는 기판 스테이지와,상기 기판 스테이지 일측에 설치되어 마스크가 장착되는 마스크 스테이지와,상기 기판 스테이지 및 마스크 스테이지와 연결 설치되어 상기 기판 스테이지와 마스크 스테이지를 조사되는 광원에 대해 수직 이동시키는 동시에 회전시킬 수 있는 스캔 스테이지를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 경사 노광기.제 1 항에 있어서,상기 스캔 스테이지는 상기 기판 스테이지와 마스크 스테이지가 일면에 장착되어 상기 기판 스테이지와 마스크 스테이지를 조사되는 광원에 대해 수직 이동시키는 수직이동 스테이

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 액정소자의 백 라이트 유닛 금형 제조방법 | 이승섭, 오동영, 이상훈
  2. [한국] 초저속 경사 회전 노광장치 | 문성욱, 박종연
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