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[국내논문] 쇼키 접합을 갖는 박막의 전기적인 특성에 따른 나노반도체구조에 관한 연구
Study on the Nano Semiconductor Structure due to the Electrical Characteristics of Thin Films with Schottky Contacts 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.16 no.1, 2017년, pp.70 - 74  

오데레사 (청주대학교 반도체공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

To research the electrical properties of ZnS thin films with various annealing conditions, ZnS was prepared by RF magnetron sputtering system and annealed in a vacuum for 10 minutes. All films were analyzed by the XRD, PL and I-V measurement system. The XRD pattern of ZnS film annealed at $100^...

주제어

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문제 정의

  • 본 논문에서는ZnS의 대한 가능성을 조사를 하였고, 이것을 토대로 하여서 열처리 분위기에 따라서 특성에 얼마나 영향을 주는지에 대해서 알아보았다. ZnS박막은 RFSputter를 이용하여 증착을 하였으며, 이 Sputtering방법은 물질의 전기적 특성의 일정하게 유지를 가능하게 해주고, 저온공정이 가능하다.
  • 또한 Chamber안의 공정조건을 세밀하게 제어가 가능하다는 점을 가지고 있다. 산화물반도체 박막은 열처리 온도에 따라 결정성과 특성이 바뀌기 때문에 열처리 환경에 따른 결정성과 전류의 변화에 대해서 연구를 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
Indium의 독성 저온증착 등의 문제를 해결하기 위해 대체할 수 있는 물질은? [1-3] 하지만 Indium 의 독성, 저온증착의 어려움, Indium의 희소성, 과도한 열처리로 인한 특성변이의 문제가 발견되고 있다. 이러한 문제를 해결할 방법으로 SnO2, ZTO, ZnO와 같은 물질이 사용되고 있다. 여기에 전도성이 높은 물질을 도핑을 하면서 전도성이 낮은 비 저항을 나타낼 수 있다고 연구가 되었는데, 투명박막의 재료물질을 어떤 물질을 쓰느냐에 따라서 물질의 결정화나 방향성이 다르게 나타나기 때문에 이동도와 면저항의 수치가 다르게 바뀌어져 프로세스의 최적화가 꼭 필요하다.
높은 사용률과 효과율을 보여주고 있는 물질은 무엇이 있는가? 1eV 이상의 넓은 밴드 갭, ~10^-4Ω㎝ 이하의 낮은 비 저항을 나타내어야 한다. 현재 가장 높은 사용률과 효과율을 보여주고 있는 물질은 ITO (Indium Tin Oxide), IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide)를 예로 들 수 있다.[1-3] 하지만 Indium 의 독성, 저온증착의 어려움, Indium의 희소성, 과도한 열처리로 인한 특성변이의 문제가 발견되고 있다.
투명전극으로 사용하기 위해 투명박막은 어떤 조건을 갖추어야 하는가? 투명전극에 사용되는 투명 박막은 높은 광 투과율과 높은 전자농도, 3.1eV 이상의 넓은 밴드 갭, ~10^-4Ω㎝ 이하의 낮은 비 저항을 나타내어야 한다. 현재 가장 높은 사용률과 효과율을 보여주고 있는 물질은 ITO (Indium Tin Oxide), IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide)를 예로 들 수 있다.
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참고문헌 (14)

  1. Teresa Oh, "Ohmic Contact Effect and Electrical Characteristics of ITO Thin Film Depending on SiOC Insulator" Korean J. Mater. Res. Vol. 25, No. 7, pp. 1149-1154, 2015. 

  2. Sang-Heon Lee, Keon-Tae Park, and Young-Guk Son. "Electrochemical Characteristics of Silicon-Doped Tin Oxide Thin Films". Korean Journal of Materials Research. Vol.12, pp 240-247, 2002. 

  3. Z. M. Jarzebski and J. P. Marton, "Physical Properties of SnO2 Materials I . Preparation and Defect Structure," Journal of the electrochemical Society, vol 123, pp. 199-203, 1976. 

  4. Gwangpyo Choi, Hyunwook Ryu, Yongjin Seo, Woosun Lee, Kwangjun Hong, Dongcharn Shin, Jinseong Park and Sheikh A. Akbar. "Cauliflower Hillock Formation through Crystallite Migration of SnO2 Thin Films Prepared on Alumina Substrates by Using MOCVD". Journal of the Korean Physical Society, Vol. 43, No. 6, pp. L967-L971. 2003. 

  5. Paranjape MA, Mane AU, Raychaudhuri AK, Shalini K, Shivashankar SA, Chakravarty BR, "Metal-organic chemical vapour deposition of thin films of cobalt on different substrates: study of microstructure", Thin Solid Films, 413(1-2), pp. 8-15, 2002. 

  6. V. Vasu and A. Subrahmanyam, "Electrical and optical properties of sprayed SnO2 films", Thin Solid Film, Vol. 193/194, pp. 973-980, 1990. 

  7. Randhawa. H.S, Matthews. M.D, Bunshah, R.F, "SnO2 films prepared by activated reactive evaporation", Thin Solid Films, Vol. 83, pp. 267-271, 1967. 

  8. Teresa Oh, "Electrical Characteristics of Thin Film Transistor According to the Schottky Contacts", Korean Journal of Materials Research, Vol. 24, pp. 135-139, 2014. 

  9. Yoo Duk-yean, Kim Hyoung-ju, Kim Jun-yeong, Jo Jung-yol, "Current Variation in ZnO Thin-Film Transistor under Different Annealing Conditions," Journal of the Semiconductor & Display Technology Vol .13, pp.63-66, No.1, 2014. 

  10. Kim Dong-Sun, "Characterization and deposition of ZnO thin films by Reactive Magnetron Sputtering using Inductively-Coupled Plasma (ICP)," Journal of the Semiconductor & Display Technology,Vol. 10, pp. 83-89, No. 2, 2011. 

  11. Kenji Normura, Toshio Kamiya and Hideo Hosono, "Ambipolar Oixde Thin-Film Transistor", Adv. Mater. Vol. 23, pp. 3431-3434, 2011. 

  12. Hong Woo Lee, Bong Seob Yang, Seungha Oh, Yoon Jang Kim and Hyeong Joon Kim, "The Properties of RF Sputtered Zinc Tin Oxide Thin Film Transistors at Different Sputtering Pressure", J. of The Korean Society of Semiconductor & Display Technology, Vol. 13, pp. 43-49, 2014. 

  13. Oleg Mitrofanov & Michael Mantra. Poole-Frenkel Electron Emission from the Traps in AlGaN/GaN Transistors. J. Appl. Phys. 95, 6414-6419 (2004). 

  14. T. Oh, Tunneling Phenomenon of amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin Film Transistors for Flexible Display, Electronic Materials Letters, Vol. 11. pp. 853-861 (2015). 

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