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에칭 폐액으로부터 용매추출과 가수분해를 이용한 니켈분말제조에 관한 연구
Recovery of Nickel from Waste Iron-Nickel Alloy Etchant and Fabrication of Nickel Powder 원문보기

청정기술 = Clean technology, v.25 no.1, 2019년, pp.14 - 18  

이석환 ((주) 케이엠씨) ,  채병만 ((주) 케이엠씨) ,  이상우 ((주) 케이엠씨) ,  이승환 (금오공과대학교 환경공학과)

초록
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여러 금속 부품을 가공하기 위하여 사용된 염화제이철 에칭 폐액은 유가금속인 니켈 등을 함유하고 있다. 본 연구에서는 식각공정을 완료한 에칭폐액을 재생하고 부산물로 나온 니켈 함유 폐액으로부터 정제하여 니켈 금속분말로 제조하는 공정을 개발하였다. 부산물인 니켈함유용액을 철 등의 불순물을 침전 제거하기 위하여 수산화나트륨 수용액을 실험을 통하여 가수분해 중화제로서 선정하였고, 이를 통하여 철 등의 불순물을 pH = 4 조건하에 침전 제거하였다. 그 후, 불순물로 잔류하는 망간아연과 같은 금속이온들을 D2EHPA (Di-(2-ethylhexyl) phosphoric acid)를 사용하여 용매추출 하였다. 정제된 염화니켈은 99% 이상의 순도를 가지고 있으며, 그 후 환원제하이드라진을 이용하여 99% 이상의 순도와 약 150 nm의 크기를 가지는 니켈 금속분말로 제조하였다. 염화니켈 및 니켈 금속분말의 성분은 EDTA 적정법과 유도결합 플라즈마 방출분광법(inductively coupled plasma optical emission spectrometer, ICP-OES)을 이용하여 확인하였으며, 전계방사 주사전자현미경(field emission scanning electron microscope, FE-SEM), X-선 회절분석기(X-ray diffraction, XRD) 및 투과전자현미경(transmission electron microscopy, TEM)을 통하여 금속분말의 형태, 입자 크기 및 결정성과 같은 물리적 특성을 확인하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In general after the etching process, waste etching solution contains metals. (ex. Nickel (Ni), Chromium (Cr), Zinc (Zn), etc.) In this work, we proposed a recycling process for waste etching solution and refining from waste liquid contained nickel to make nickel metal nano powder. At first, the neu...

주제어

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문제 정의

  • [4-8]이 용매추출제 Alamine336에 의한 염화제이철 에칭폐액으로부터 용매추출 및 화학환원법에 의한 니켈회수에 대한 연구를 수행하였다. 본 연구진은 선행 연구에서 산화제에 의한 산화연구 및 용매추출공정을 이용한 염화제이철 에칭폐액 재활용에 대한 연구를 수행하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
금속 가공 공정 중 염화제이철 에칭폐액이 생성되는 공정은? 종래의 전자제조 분야에서 금속을 가공할 수 있는 방법 중 하나인 식각공정에서 염화제이철 수용액(ferric chloride, FeCl3)은 강한 부식력을 보유하고 있기 때문에 OLED용 쉐도우마스크와 PCB등 전자부품 가공에 주로 쓰이고 있다[1-3]. 식각공정을 진행함에 따라 Fe3+가 Fe2+로 환원되면서 식각된 금속이온이 염화제이철 수용액에 함유되어 배출된다. 이렇게 금속이온이 포함된 염화제이철 에칭폐액은 폐수나 오니로서 폐기물로 배출된다.
염화제이철 수용액은 어디에 쓰이는가? 이에 대한 해결책 중 하나로서 생산, 유통, 소비, 폐기 등 전 과정에서의 폐기물을 억제하고 재이용한 자원으로 활용하는 폐기물 재활용은 매우 중요하다. 종래의 전자제조 분야에서 금속을 가공할 수 있는 방법 중 하나인 식각공정에서 염화제이철 수용액(ferric chloride, FeCl3)은 강한 부식력을 보유하고 있기 때문에 OLED용 쉐도우마스크와 PCB등 전자부품 가공에 주로 쓰이고 있다[1-3]. 식각공정을 진행함에 따라 Fe3+가 Fe2+로 환원되면서 식각된 금속이온이 염화제이철 수용액에 함유되어 배출된다.
염화제이철 에칭 폐액이 함유하는 성분은? 여러 금속 부품을 가공하기 위하여 사용된 염화제이철 에칭 폐액은 유가금속인 니켈 등을 함유하고 있다. 본 연구에서는 식각공정을 완료한 에칭폐액을 재생하고 부산물로 나온 니켈 함유 폐액으로부터 정제하여 니켈 금속분말로 제조하는 공정을 개발하였다.
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참고문헌 (12)

  1. Lee, H. M., Park, M., Park, G. H., and Park, C., "Wet Etching of Stainless Steel Foil by Aqueous Ferric Chloride Solution," Korean Chem. Eng. Res., 50(2), 211-216 (2012). 

  2. Allen, D. M., and Heather, J. A. A., "Characterisation of Aqueous Ferric Chloride Etchants used in Industrial Photochemical Machining," J. Mater Process Technol., 149(1-3), 238-245 (2004). 

  3. Lee, H. Y., Ahn, E., Park, C., and Tak, Y., "Regeneration of Waste Ferric Chloride Etchant Using HCl and $H_2O_2$ ," Appl. Chem. Eng., 24(1), 67-71 (2013). 

  4. Kim, D. W., Park, I., Kim, G. H., Lee, S. W., and Choi, H. L., "A Study on the Oxidation for Regeneration of Ferric Chloride Etching Solution," J. Korean Inst. Resour. Recycl., 26(2), 18-24 (2017). 

  5. Kim, D. W., Park, I., Kim, G. H., Chae, B. M., Lee, S. W., Choi, H. L., and Jung, H. C., "Oxidation Process for the Etching Solution Regeneration of Ferric Chloride Using Liquid and Solid Oxidizing Agent," Clean Technol., 23(2), 158-162 (2017). 

  6. Park, I. J., Kim D. W., Kim, G. H., Chae, B. M., Lee, S. W., and Jung, H. C., "The Optimization of Solvent Extraction Process of Iron Chloride Etching Waste Solution," Clean Technol., 23(3), 279-285 (2017). 

  7. Chae, B. M., Hwang, S. O., Lee, S. H., Kim D. H., Lee, S. W., Kim, D. W., and Choi, H. L., "A Study on the Preparation of High Purity Nickel Carbonate Powders in Solvent Extraction Processing Solution from Waste Iron-Nickel Alloy Etchant," J. Korean Crystal Growth and Crystal Technol., 27(6), 303-308 (2017). 

  8. Chae, B. M., Kim, D. W., Hwang, S. O., Lee, S. H., and Kim, D. H., "Recovery of Iron-Nickel Alloy Etching Waste Solution in Pilot Scale," Clean Technol., 23(4), 393-400 (2017). 

  9. Yun, D. S., Lee, G. S., and Park, J. H., "Studies on the Ferric Chloride Etching of Shadow Masks," Korean Chem. Eng. Res., 38(3), 393-393 (2000). 

  10. Lee, M. S., and Kim, M. S., "Recovery of Nickel Metal from the Spent $FeCl_3$ Etching Solution by Solvent Extraction and Chemical Reduction," J. Korean Inst. Resour. Recycl., 14(3), 48-54 (2005). 

  11. Park, J. W., Chae, E. H., Kim, S. H., Lee, J. H., Kim, J. W., Yoon, S. M., and Choi, J. Y., "Preparation of Fine Ni Powders from Nickel Hydrazine Complex," Mater Chem. Phys., 97(2-3), 371-378 (2006). 

  12. Hwang, S. O., Chae, B. M., Kim D. H., Park, K. S., Go, A. R., and Lee, S. W., "Recovery of Nickel from Waste Lithium Ion Secondary Battery and Fabrication of Nickel Nanopowder," Key Eng. Mater, 733, 22-26 (2017). 

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