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3차원 플래시 메모리의 전하 손실 원인 규명을 위한 Activation Energy 분석
Study on the Activation Energy of Charge Migration for 3D NAND Flash Memory Application 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.18 no.2, 2019년, pp.82 - 86  

양희훈 (충남대학교 전자공학과) ,  성재영 (충남대학교 전자공학과) ,  이휘연 (충남대학교 전자공학과) ,  정준교 (충남대학교 전자공학과) ,  이가원 (충남대학교 전자공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The reliability of 3D NAND flash memory cell is affected by the charge migration which can be divided into the vertical migration and the lateral migration. To clarify the difference of two migrations, the activation energy of the charge loss is extracted and compared in a conventional square device...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 이 때 lateral charge migration의 영향을 최소화한 기존의 square 패턴 소자와 비교 분석함으로써 두 가지 전하 손실을 구별하여 평가할 수 있음을 보이고자 하였다. 특히 본 논문에서는 보다 효율적으로 3D NAND 플래시 메모리의 성능 향상을 이루기 위해 두 개의 test pattern에서의 전하손실에 대한 activation energy 추출 결과에 대한 분석 결과를 기반으로 lateral charge migration에 대한 메커니즘을 고찰하고자 한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
비휘발성 메모리의 신뢰성을 결정하는데 있어 매우 중요한 요인은 무엇인가? 데이터 유지 특성은 메모리에 데이터를 입력 후, 얼마나 오랜 시간동안 데이터를 유지할 수 있는지를 결정하는 요인이다. 따라서, 비휘발성 메모리에서의 데이터 유지 특성은 신뢰성을 결정하는데 있어 매우 중요한 요인이라 할 수 있다. 기존의 planar 구조에서는 각 셀들이 분리되어 전자전하층을 공유하지 않았다.
메모리 소자의 고밀도화를 위한 소형화가 급속도로 진행되면서 발생한 문제에는 어떤 것들이 있는가? 이에 메모리 소자의 고밀도화를 위한 소형화가 급속하게 진행되어 왔지만 planner 구조의 소자에서 채널의 길이가 짧아지고, 소자 간 간격이 좁아짐으로 인하여 여러 문제가 발생했다. 대표적으로 drain induced barrier lowering (DIBL) [1,2], punch through [3,4] 와 같은 short channel effect [5,6]를 들 수 있다. 또한 각 셀의 간격이 줄어들면서 소자 간 coupling으로 interference 현상이 심화된다 [7,8]. 이 외에 소자를 이루는 각 층을 축소시키는 데에도 문제가 발생하는데 대표적으로 게이트 절연막 두께 감소에 의한 direct tunneling 현상의 심화이다[9]. Planar 구조 메모리 소자의 이러한 한계를 극복하기 위해 여러 3D 구조의 소자가 연구되고 있다.
메모리의 데이터 유지 특성은 무엇인가? 메모리의 신뢰성을 판단하는 성능으로는 데이터의 쓰기, 지우기 동작의 반복 가능 횟수(Cycling endurance)와 데이터의 유지 특성(Retention)이 있다. 데이터 유지 특성은 메모리에 데이터를 입력 후, 얼마나 오랜 시간동안 데이터를 유지할 수 있는지를 결정하는 요인이다. 따라서, 비휘발성 메모리에서의 데이터 유지 특성은 신뢰성을 결정하는데 있어 매우 중요한 요인이라 할 수 있다.
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