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원자층 증착방법에 의한 Al2O3 박막의 OLED Thin Film Encapsulation에 관한 연구
Study on the OLED Thin Film Encapsulation of the Al2O3 Thin Layer Formed by Atomic Layer Deposition Method 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.21 no.1, 2022년, pp.67 - 70  

김기락 (가천대학교 전자공학과) ,  조의식 (가천대학교 전자공학과) ,  권상직 (가천대학교 전자공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In order to prevent water vapor and oxygen permeation in the organic light emitting diodes (OLED), Al2O3 thin-film encapsulation (TFE) technology were investigated. Atomic layer deposition (ALD) method was used for making the Al2O3 TFE layer because it has superior barrier performance with advantage...

주제어

참고문헌 (12)

  1. E. G. Jeong, J. H. Kwon, K. S. Kang, S. Y. Jeong, K. C. Choi, "A review of highly reliable flexible encapsulation technologies towards rollable and foldable OLEDs" J. Information. Disply., Vol. 21, No. 1, pp. 19-32, 2020. 

  2. B.-H. Kwon, H. Lee, M. Kim, C. W. Joo, H. Cho, J. T. Lim, Y. S. Jung, "A Systematic Study of the Interactions in the Top Electrode/Capping Layer/Thin Film Encapsulation of Transparent OLEDs", J. In dustrial and Engineering Chemistry, Vol. 93 pp. 237-244, 2021. 

  3. S. Sandrez, S. M. Della-Gatta. T. Maindron, "Impact of pixel surface topography onto thin-film encapsulated top-emitting organic light-emitting diodes performances", Thin Solid Films, Vol. 699, pp. 137869. 1-9, 2020. 

  4. D. Yu, Y. Q. Yang, Z. Chen, Y. Tao,Y. F. Liu, "Recent progress on thin-film encapsulation technologies for organic electronic devices", Optics Communications", Vol. 362, pp. 43-49, 2016. 

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  6. Yang Yong-Qiang and Duan Yu, "Optimization of Al2O3 Films Deposited by ALD at Low Temperatures for OLED Encapsulation", J. Phys. Chem. C 118, 18783-18787, 2014. 

  7. R. Katamreddy, R. Inman, G.Jursich, A. Soulet, and C. Takoudis, "ALD and Characterization of Aluminum Oxide Deposited on Si(100) using Tris(diethylamino) Aluminum and Water Vapor," J. Electrochemical Society, Vol. 153, pp. C701-C706, 2006. 

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  9. M. G. Daniel, J. Song, S. A. S. Tali, X. Dai,and W. Zhou, "Sub-10 nm Nanolaminated Al2O3/HfO2 Coatings for Long-Term Stability of Cu Plasmonic Nanodisks in Physiological Environments", ACS Appl. Mater. Interfaces, vol. 12, ppp. 31952-31961, 2020. 

  10. G. Chen, Y. Weng, F. Sun, D. Hong, X. Zhou, T. Guo , Y. Zhang, Q. Yan, C. Wu, L. Sun, " Improved barrier and mechanical properties of Al2O3/acrylic laminates using rugged fluorocarbon layers for flexible encapsulation", Organic Electronics, Vol. 97, pp. 106263:1-9, 2021. 

  11. M. Li, M. Xu, J. Zou, H. Tao, L. Wang, Z. Zhou, J. Peng, "Realization of Al 2 O 3 /MgO laminated structure at low temperature for thin film encapsulation in organic light-emitting diodes", Nanotechnology, Vol. 27, pp. 494003: 1-8, 2016. 

  12. Chang Jo Kim and Paik Kyun Shin, "Application of Si 3 N 4 Thin Film as a Humidity Protection Layer for Organic Light Emitting Diode", J. KIEEME Vol. 23, No. 5, pp. 397-402, May 2010. 

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