$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[해외논문] Frequency Effect of Pulse Plating on the Uniformity of Copper Deposition in Plated Through Holes

Journal of the Electrochemical Society : JES, v.150 no.5, 2003년, pp.C267 -   

Tsai, Wen-Ching ,  Wan, Chi-Chao ,  Wang, Yung-Yun

초록이 없습니다.

참고문헌 (21)

  1. Printed Circuit Fabrication Nargi-Toth 22 32 1999 

  2. 0013-4686 Electrochim. Acta Kobayashi 47 85 2001 10.1016/S0013-4686(01)00592-8 

  3. 0257-8972 Surf. Coat. Technol. Holmbom 35 333 1988 10.1016/0257-8972(88)90046-1 

  4. 0021-891X J. Appl. Electrochem. Kalantary 23 231 1993 10.1007/BF00241914 

  5. 0360-3164 Plat. Surf. Finish. Taylor 87 68 2000 

  6. 0021-891X J. Appl. Electrochem. Pearson 20 196 1990 10.1007/BF01033595 

  7. 0360-3164 Plat. Surf. Finish. Mikkola 87 81 2000 

  8. Surf. Technol. Ibl 10 81 1980 10.1016/0376-4583(80)90056-4 

  9. 0021-891X J. Appl. Electrochem. Puippe 10 775 1980 10.1007/BF00611281 

  10. W. C. Tsai, C. C. Wan, and Y. Y. Wang, J. Appl. Electrochem., Accepted. 

  11. 0021-891X J. Appl. Electrochem. Mirkova 24 420 1994 10.1007/BF00254154 

  12. 0013-4651 J. Electrochem. Soc. Kelly 145 3472 1998 10.1149/1.1838829 

  13. 0013-4651 J. Electrochem. Soc. Moffat 147 4524 2000 10.1149/1.1394096 

  14. 0360-3164 Plat. Surf. Finish. Reid 74 66 1987 

  15. 0013-4651 J. Electrochem. Soc. Reid 134 1389 1987 10.1149/1.2100677 

  16. 0013-4686 Electrochim. Acta Goldbach 44 323 1998 10.1016/S0013-4686(98)00112-1 

  17. 0022-0728 J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem. Burrows 58 241 1975 10.1016/S0022-0728(75)80356-1 

  18. J. Cl. Puippe and F. Leaman, Theory and Practice of Pulse Plating , AESF Society, Orlando, FL (1986). 

  19. 0013-4651 J. Electrochem. Soc. West 145 3070 1998 10.1149/1.1838766 

  20. 0014-7672 Trans. Faraday Soc. Mattson 55 1586 1959 10.1039/tf9595501586 

  21. 0013-4651 J. Electrochem. Soc. Tsai 149 C229 2002 10.1149/1.1462793 

섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로