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[해외논문] Study of 4H–SiC trench MOSFET structures

Solid-state electronics, v.49 no.7, 2005년, pp.1081 - 1085  

Chen, L. (Corresponding author. Tel.: +44 179 251 3181) ,  Guy, O.J. (fax: +44 179 229 5686.) ,  Jennings, M.R. (School of Engineering, University of Wales Swansea, Singleton Park, Swansea SA2 8PP, UK) ,  Igic, P. (School of Engineering, University of Wales Swansea, Singleton Park, Swansea SA2 8PP, UK) ,  Wilks, S.P. (School of Engineering, University of Wales Swansea, Singleton Park, Swansea SA2 8PP, UK) ,  Mawby, P.A. (School of Engineering, University of Wales Swansea, Singleton Park, Swansea SA2 8PP, UK)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractAn investigation of the structures and design parameters of 4H–SiC trench inversion-channel MOSFETs using a two-dimensional (2D) numerical device simulation is presented. Material parameters have been adjusted appropriately for the 4H–SiC polytype and a systematic characterisatio...

주제어

참고문헌 (18)

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  3. Solid-State Electron Casady 39 10 1409 1996 10.1016/0038-1101(96)00045-7 Status of silicon carbide (SiC) as a wide-bandgap semiconductor for high-temperature applications: a review 

  4. IEEE Trans Electron Dev Bhatnagar 40 3 645 1993 10.1109/16.199372 Comparison of 6H-SiC, 3C-SiC and Si for power devices 

  5. IEEE Electron Dev Lett Baliga 10 455 1989 10.1109/55.43098 Power semiconductor device figure of merit for high-frequency applications 

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  7. Microelectron Eng Afanas’ev 48 241 1999 10.1016/S0167-9317(99)00379-2 Electronic properties of SiO2/SiC interfaces 

  8. Appl Phys Lett Saks 77 20 3281 2000 10.1063/1.1326046 Hall mobility and free electron density at the SiC/SiO2 interface in 4H-SiC 

  9. Academi2d is a Semiconductor device modelling and circuit simulation program. It is a product of ESEMI Limited developed by Mawby PA, Towers MS, Igic P, Evens S. Available from: http://www.esemi.com. 

  10. IEEE Trans Electron Dev Li 49 6 972 2002 10.1109/TED.2002.1003714 High-voltage (3kV) UMOSFETs in 4H-SiC 

  11. 10.1049/PBEP002E Zetterling CM. Process technology for silicon carbide devices. INSPEC, IEE, London, UK; 2002. p. 9, 97. 

  12. Microelectron Eng Kumar 65 416 2003 10.1016/S0167-9317(03)00053-4 Analytical model of 6H-SiC MOSFET 

  13. Appl Phys Lett Konstantinov 71 1 90 1997 10.1063/1.119478 Ionization rates and critical fields in 4H silicon carbide 

  14. Solid-State Electron Mihaila 47 4 607 2003 10.1016/S0038-1101(02)00185-5 A numerical comparison between MOS control and junction control high voltage devices in SiC technology 

  15. Appl Phys Lett Friedrichs 65 13 1665 1994 10.1063/1.112904 Dielectric strength of thermal oxides on 6H-SiC 

  16. J Appl Phys Shenoy 79 6 3042 1996 10.1063/1.361244 Effort of substrate orientation and crystal anisotropy on the thermally oxidized SiO2/SiC interface 

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  18. J Electron Mater Capano 28 214 1999 10.1007/s11664-999-0016-z Surface roughening of ion implanted 4H-silicon carbide 

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