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SiC 기반 트렌치형 차세대 전력소자 핵심기술개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국전자통신연구원
Electronics and Telecommunications Research Institute
연구책임자 김상기
참여연구자 구용서 , 심재기
보고서유형연차보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2015-12
과제시작연도 2015
주관부처 미래창조과학부
Ministry of Science, ICT and Future Planning
등록번호 TRKO201700008799
과제고유번호 1711032851
사업명 한국전자통신연구원운영경비
DB 구축일자 2017-10-14
키워드 SiC 다이오드.SiC 전력소자.트렌치.게이트 산화막.오믹.SiC MOSFET.

초록

1. 필요성 및 중요성
1.1. 연구개발과제의 필요성
1.1.1 출연처(미래창조과학부) 정책 및 기술수요
○ ETRI 중장기 ETRI 중장기 기술개발계획 중 융합시스템단말부품-(29)“차세대 전력반도체 기술”전략분야에 해당
○ 산업통상자원부와 한국반도체산업협회를 중심으로 차세대 전력반도체 산업육성 기술기획 중
○ SiC, GaN 등 차세대 화합물반도체를 포함하는 전력반도체 연구개발, 인프라구축, 인력양성의 정책과 부합

1.1.2 산업동향 및 시장 기술수요
○ 에너지 사용량의 폭발적인 증가

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 2015년도 주요사업(연차) 보안서약서 및 최종평가 평가표 ... 2
  • 세부과제 연차실적 보고서 ... 5
  • 목차 ... 7
  • 1. 필요성 및 중요성 ... 9
  • 1.1. 연구개발과제의 필요성 ... 9
  • 1.2. 연구개발과제의 중요성 ... 10
  • 2. 연구개발 목표 및 내용 ... 12
  • 2.1. 최종목표 ... 12
  • 2.2. 연차별 연구개발 목표 및 내용 ... 13
  • 2.3. 단계별 연구개발 목표 및 내용 ... 14
  • 3. 연구 결과 ... 17
  • 3.1 SiC 전력소자 시뮬레이션 및 설계기술 개발 ... 17
  • 3.1.1 TCAD 환경구축 ... 17
  • 3.1.2 1700V급 SiC 전력소자 가드링 및 다이오드 시뮬레이션 ... 18
  • 3.1.3 SiC 다이오드 및 가드링 설계 ... 31
  • 3.2 SiC 전력소자 핵심기술 개발 ... 41
  • 3.2.1 트렌치 식각 및 게이트 형성 공정기술 ... 41
  • 3.2.2 열산화막/게이트 산화막 성장 공정기술 ... 45
  • 3.2.3 불순물 도핑 및 PN 접합 형성 기술 ... 49
  • 3.2.4 미세패턴 및 오믹 접촉 형성기술 ... 54
  • 3.3 SiC 전력소자 제작 및 특성평가 기술개발 ... 62
  • 3.3.1 SiC 다이오드 및 가드링 패턴 제작 ... 62
  • 3.3.2 SiC 다이오드 및 가드링 패턴 특성 평가 ... 69
  • 3.4 고온 열처리 장비 제작 ... 83
  • 3.5 SiC 전력소자 ESD 보호회로 기술 ... 87
  • 3.6 고출력 SiC 전력반도체 패키징 핵심공정 기술개발 ... 95
  • 4. 성과 목표 및 실적 ... 107
  • 4-1. 성과목표의 개요 ... 107
  • 4-2. 성과지표 선정 및 목표설정 ... 107
  • 4-3. 성과지표의 연차별 목표 추세 ... 108
  • 4-4. 당해연도 성과목표 달성 실적 ... 109
  • 5. 기대성과 ... 110
  • 가) 기술적 측면 ... 110
  • 나) 산업적 측면 ... 110
  • 다) 경제적 측면 ... 110
  • 6. 중간 평가 지적 사항에 대한 조치 및 개선 실적 ... 111
  • 7. 연구비 집행실적 ... 112
  • 8. 기타 ... 113
  • 끝페이지 ... 124

표/그림 (145)

참고문헌 (25)

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