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SiC 기반 트렌치형 차세대 전력소자 핵심기술개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국전자통신연구원
Electronics and Telecommunications Research Institute
연구책임자 김상기
보고서유형연차보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2016-12
과제시작연도 2016
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO201900002135
과제고유번호 1711047485
사업명 한국전자통신연구원연구운영비지원
DB 구축일자 2019-06-08
키워드 전력반도체.SiC 다이오드.파워소자.SiC.SiC MOSFET.SBD.

초록

1. 필요성 및 중요성
1.1. 연구개발과제의 필요성
1.1.1 출연처(미래창조과학부) 정책 및 기술수요
○ ETRI 중장기 ETRI 중장기 기술개발계획 중 융합시스템단말부품-(29)“차세대 전력반도체 기술”전략분야에 해당
○ 산업통상자원부와 한국반도체산업협회를 중심으로 차세대 전력반도체 산업육성 기술기획 중
○ SiC, GaN 등 차세대 화합물반도체를 포함하는 전력반도체 연구개발, 인프라구축, 인력양성의 정책과 부합

1.1.2 산업동향 및 시장 기술수요
○ 에너지 사용량의 폭발적인 증가

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 연차실적 보고서 ... 2
  • 목차 ... 7
  • 1. 필요성 및 중요성 ... 9
  • 1.1. 연구개발과제의 필요성 ... 9
  • 1.2. 연구개발과제의 중요성 ... 11
  • 2. 연구개발 목표 및 내용 ... 12
  • 2.1. 최종목표 ... 12
  • 2.2. 연차별 연구개발 목표 및 내용 ... 13
  • 2.3. 단계별 연구개발 목표 및 내용 ... 14
  • 3. 연구 결과 ... 16
  • 3.1 SiC 전력소자 시뮬레이션 및 설계 ... 16
  • 3.1.1 1700V급 SiC 전력소자용 가드링 최적화 ... 16
  • 3.1.2 Trench형 SiC 다이오드 시뮬레이션 및 설계 ... 20
  • 3.1.3 Planar형 SiC MOSFET 소자 시뮬레이션 및 설계 ... 27
  • 3.2 SiC 전력소자 핵심기술 개발 ... 38
  • 3.2.1 트렌치 식각 공정 개선 및 트렌치 게이트 형성기술 ... 38
  • 3.2.2 열산화막/게이트 산화막 성장 공정기술 ... 42
  • 3.2.3 게이트 절연막 전후처리 및 계면 특성 향상 기술 ... 46
  • 3.2.4 SiC MOSFET 채널 자기정렬기술 ... 52
  • 3.2.5 P+ 오믹 접촉 형성기술 ... 53
  • 3.3 SiC 전력소자 제작 및 특성평가 기술개발 ... 56
  • 3.3.1 SiC 가드링/다이오드/MOSFET 테스트 패턴 제작 ... 56
  • 3.3.2 SiC 가드링 테스트 패턴 특성 평가 ... 62
  • 3.3.3 SiC Trench형 다이오드의 특성 평가 ... 65
  • 3.3.4 SiC MOSFET 특성 평가 ... 70
  • 3.4 SiC 전력소자 ESD 기술 개발 ... 84
  • 4. 연구개발 추진체계 및 방법 ... 86
  • 4.1 연구개발 추진체계 ... 86
  • 4.2 연구개발 방법 ... 86
  • 4.3 추진 전략 및 실천계획 ... 87
  • 5. 기대성과 ... 88
  • 5.1 기술적 측면 ... 88
  • 5.2 미래유망 연구분야 선점 가능성 측면 ... 88
  • 5.3 연구목표 달성 시 활용분야 파급성 측면 ... 89
  • 5.4 연구결과의 질적 우수성 ... 89
  • 5.5 연구결과의 활용 가능성 및 파급효과 ... 89
  • 6. 중간 평가 지적 사항에 대한 조치 및 개선 실적 ... 91
  • 6.1 지적사항 ... 91
  • 6.2 조치 및 개선사항 ... 91
  • 7. 연구비 집행 실적 ... 92
  • 8. 기타 ... 93
  • 끝페이지 ... 130

표/그림 (107)

참고문헌 (25)

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