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High performance MIM capacitor using anodic alumina dielectric

Microelectronic engineering, v.90, 2012년, pp.12 - 14  

Hourdakis, E. ,  Nassiopoulou, A.G.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We report on the fabrication and electrical characterization of MIM capacitors using barrier type anodic alumina dielectric between Al electrodes. Its fabrication is based on CMOS compatible room temperature processing using electrochemistry which is a simple and cost effective process. The obtained...

주제어

참고문헌 (15)

  1. ITRS Roadmap 2009 Edition. http://www.itrs.net/Links/2007ITRS/Home2007.htm. 

  2. Microelectron. Eng. Farcy 85 1940 2008 10.1016/j.mee.2008.03.017 

  3. IEEE Electron. Dev. Lett. Hu 24 60 2003 10.1109/LED.2002.807703 

  4. IEEE Electron. Dev. Lett. Cheng 29 845 2008 10.1109/LED.2008.2000833 

  5. J. Electrochem. Soc. Cheng 155 G295 2008 10.1149/1.2993977 

  6. IEEE Electron. Dev. Lett. Chen 23 185 2002 10.1109/55.992833 

  7. IEEE Trans. Electron Dev. Ng 52 1399 2005 10.1109/TED.2005.850642 

  8. IEEE Electron. Dev. Lett. Cho 29 684 2008 10.1109/LED.2008.2000911 

  9. J. Appl. Phys. Miao 104 054510 2008 10.1063/1.2973687 

  10. Appl. Phys. Lett. Mikhelashvili 90 013506 2007 10.1063/1.2425030 

  11. Appl. Phys. Lett. Mikhelashvili 92 132902 2008 10.1063/1.2905273 

  12. Appl. Phys. Lett. Wu 93 033511 2008 10.1063/1.2958238 

  13. Appl. Phys. Lett. Lee 91 243514 2007 10.1063/1.2825288 

  14. IEEE Electron. Dev. Lett. Kim 25 538 2004 10.1109/LED.2004.832785 

  15. IEEE Trans. Electron. Dev. Hourdakis 57 5535075 2010 10.1109/TED.2010.2058350 

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