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NTIS 바로가기대한전자공학회 2003년도 하계종합학술대회 논문집 II, 2003 July 01, 2003년, pp.1089 - 1092
채상훈 (호서대학교 전자공학과) , 정현채 (호서대학교 전자공학과) , 문세호 (세왕씨이텍(주)) , 손영수 (한국기계연구원)
This paper has been studied on wafer cleaning and photoresist striping in semiconductor fabrication processes using ozone solved deionized water. In this work, we have developed high concentration ozone generating system and high contact ratio ozone solving system to get high efficiency DIO
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