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문제 정의
- 게다가 기존의 스퍼터법과는 달리, FTS은 타겟이 플라즈마와 이격되어 있다는 장점이 누설전류의 양을 줄이는테 더욱 유리할 수 있을 것으로 생각된다. 따라서 본 연구에서 사용된 대향 타겟식 스퍼터링 장치는 OLED 소자의 대형화 및 대량 생산을 위한 ITO 투명 전극 제작 방법으로서 적합하리라 사료된다.
- 일반적인 sputtering 방법의 경우 기판과 타겟이 서로 마주 보고 있어 고에너지 입자들의 기판 입사로 인한 박막의 결함이 발생한다. 따라서 본 연구에서는 두 개의 타겟이 서로 먀주 보고 있으며 타겟 간 중앙에서 수직한 위치에 있어 고에너지 입자에 의한 기판 손상을 최소화 할 수 있는 FTS[4-6] 장치를 사용하여 증착 조건을 변화시켜가며 ITO 박막을 증착하였으며, 이때의 OLED 소자의 LV 특성믈 살펴보았다.
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