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아르곤4P준위 광방출 분석법(OES)을 이용한 플라즈마의 전자온도 및 준안정 밀도 측정 원문보기

한국반도체및디스플레이장비학회 2007년도 춘계학술대회, 2007 June 08, 2007년, pp.104 - 108  

이영광 (한양대학교 공과대학 전기공학과) ,  이민형 (한양대학교 공과대학 전기공학과) ,  정진욱 (한양대학교 공과대학 전기공학과)

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This paper reviews a simple model and spectroscopic method for extracting plasma electron temperature and argon metastable number density. The model is based on the availability of experimental relative emission intensities of only four argon lines that originate from 4p argon level. In this method,...

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  • 앞서 기술한 바와 같이 플라즈마 내의 전자는 Maxwell-Boltzman 분포를 따른다고 가정하며 이상적인 전자에너지밀도 함수(Maxwellian EEDF)는 적용할 수 있다. 한편 충돌단면적(Cross Section :a) 은 에너지의 함수로 표현되는데, 이 값은 여러 사람들에 의해 실험적[4]으로 또는 수치적 [5]으로 겨산되었으며, 값의 정확성은 아직도 많은 향상과 개선을 필요로 하고 있다.
  • 열역학적 평형상태인 플라즈마를 설명하기 위해서는 적절한 모델을 선택해야 한다. 일반적으로 실험실 플라즈마 내의 전자는 Maxwell-Boltzman 분포를 따른다고 가정하며, 이를 바탕으로 광방출 데이터를 플라즈마 모델에 적용하여 유효 전자온도를 구할 수 있어야 한다. 또한, 전자온도와 준안정 준위의 개수 밀도를 동시에 측정하기 위해서는 4개 선(line)의 상대적인 방사 세기 측정이 필요한데, 이상태의 플라즈마는 간단한 충돌-방사 모델(Collisonal-Radiative Model :CR - model)을 적용할 수있어야 한다.
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