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NTIS 바로가기Interconnect Technology Conference (IITC), 2017 IEEE International, 2017 May, 2017년, pp.1 - 3
Rochat, Raphael (K.K. Air Liquide Labs., Tsukuba, Japan) , Oschchepkov, Ivan (K.K. Air Liquide Labs., Tsukuba, Japan) , Changhee Ko
A new family of highly volatile alkylsilyl-functionality Co precursors, R3SiCo(CO)4, has been synthesized. One of them, Et3SiCo(CO)4, has been evaluated by low temperature thermal chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD), which gave low resistive (29 μΩ·...
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