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NTIS 바로가기국가/구분 | European Patent Office(EP) /A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | EP-18160280 (2018-03-06) |
공개번호 | EP-3373070 (2018-09-12) |
우선권정보 | KR-20170030731 (2017-03-10); KR-20170159821 (2017-11-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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Disclosed are a pellicle for an extreme ultraviolet (EUV) lithography, which is excellent in transmittance of EUV exposure light and mechanical strength, and a method of fabricating the same. The pellicle includes a support layer pattern; a buried oxide layer pattern formed on the support layer patt
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