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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0149859 (2017-11-10) | |
공개번호 | 10-2019-0053706 (2019-05-20) | |
등록번호 | 10-1981950-0000 (2019-05-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170149859 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-11-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
극자외선 리소그래피용 펠리클이 개시된다.펠리클은 지지층을 식각하여 형성되는 지지층 패턴, 및 지지층 패턴의 상부에 형성되며 중심층과 보강층으로 구성되는 펠리클층을 구비한다.보강층은 그 외표면이 나노 크기의 다공성 표면으로 구성된다.다공성 표면에 의하여 방열 효과가 증가하여 열적 특성이 개선된다.
지지층을 식각하여 형성되는 지지층 패턴; 및상기 지지층 패턴의 상부에 형성되는 중심층, 및 상기 중심층의 상부에 형성되는 보강층을 포함하여 구성되는 펠리클층;을 포함하며,상기 보강층의 하부는 나노 포어의 외표면으로 형성되며,상기 보강층 하부의 나노 포어 외표면은, 상기 중심층의 상부를 나노 포어 표면으로 형성하고 상기 중심층의 상부에 상기 보강층이 증착에 의해 형성됨에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 극자외선 리소그래피용 펠리클.
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