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NTIS 바로가기국가/구분 | European Patent Office(EP) /A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | 18165360.1 (2018-04-02) |
공개번호 | 3483656 (2019-05-15) |
우선권정보 | KR-20170149847 (2017-11-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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Disclosed is a pellicle for extreme ultraviolet (EUV) lithography. The pellicle may include: a support layer pattern which is formed by etching a support layer; a pellicle layer which is formed on the support layer pattern; and an etching stop layer pattern which is formed between the support layer
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