초록 ▼

CVD 장치에 있어서 반응가스의 이용효율을 높이고, 생산성과 수율을 향상시킨다. 반응용기(11)와, 기판유지체(13)와, 기판유지체를 가열하는 가열장치(34)와, 반응용기내에 반응가스를 공급하는 반응가스공급판(12)을 구비하고, 반응가스공급판의 기판 대향면에 동심형상으로 설치된 적어도 2개의 원통(20,21)을 구비하고, 반응가스공급판에 있어서의 각 원통의 내부측에 위치하는 부분으로부터 반응가스를 공급하도록 구성된다. 반응가스공급판과 기판유지체에 전력을 공급하는 전력공급장치와, 반응용기의 상부측과 하부측에 배치된 고리형상의 자석(5

CVD 장치에 있어서 반응가스의 이용효율을 높이고, 생산성과 수율을 향상시킨다. 반응용기(11)와, 기판유지체(13)와, 기판유지체를 가열하는 가열장치(34)와, 반응용기내에 반응가스를 공급하는 반응가스공급판(12)을 구비하고, 반응가스공급판의 기판 대향면에 동심형상으로 설치된 적어도 2개의 원통(20,21)을 구비하고, 반응가스공급판에 있어서의 각 원통의 내부측에 위치하는 부분으로부터 반응가스를 공급하도록 구성된다. 반응가스공급판과 기판유지체에 전력을 공급하는 전력공급장치와, 반응용기의 상부측과 하부측에 배치된 고리형상의 자석(53,55)을 설치하고, 각 자석의 대향하는 자극부에 의해 플라즈마 공간을 통하여 자력선을 생성한다.

대표청구항

반응용기와, 상기 반응용기내에 설치되는 기판유지수단과, 상기 기판유지수단에 대향하여 배치된 상기 반응용기내에 반응가스를 공급하는 반응가스공급수단을 구비한 CVD 장치에 있어서, 상기 반응가스공급수단의 기판 대향면에 동심형상으로 설치된 적어도 2개의 통체를 구비하고, 상기 반응가스공급수단에 있어서의 상기 각 통체로부터 상기 반응가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 CVD 장치.

반응용기와, 상기 반응용기내에 설치되는 기판유지수단과, 상기 기판유지수단에 대향하여 배치된 상기 반응용기내에 반응가스를 공급하는 반응가스공급수단을 구비한 CVD 장치에 있어서, 상기 반응가스공급수단의 기판 대향면에 동심형상으로 설치된 적어도 2개의 통체를 구비하고, 상기 반응가스공급수단에 있어서의 상기 각 통체로부터 상기 반응가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 CVD 장치.