초록 ▼

본 발명은 에칭처리 등으로 변질된 포토레지스트 패턴막에 대해 우수한 용해성과 박리성을 가지며 물과 혼합하여 린스(Rinse)액으로 사용시 알루미늄 또는 구리기판에 대한 부식이 적고 증발량이 적어 작업환경에 나쁜 영향을 미치지 않을 뿐아니라 안정성이 높으며 린스처리도 물로 가능하고, 특히 저온 박리성이 우수하여 실용성이 높은 포토레지스트박리액 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 포지형 포토레지스트 박리액 조성물은 지방족아민 10~50wt%, 에틸렌그리콜모노알킬에텔 0~70wt%, 비양자성 극성용제 20~90wt%, 알킬아릴폴리옥시에틸렌

본 발명은 에칭처리 등으로 변질된 포토레지스트 패턴막에 대해 우수한 용해성과 박리성을 가지며 물과 혼합하여 린스(Rinse)액으로 사용시 알루미늄 또는 구리기판에 대한 부식이 적고 증발량이 적어 작업환경에 나쁜 영향을 미치지 않을 뿐아니라 안정성이 높으며 린스처리도 물로 가능하고, 특히 저온 박리성이 우수하여 실용성이 높은 포토레지스트박리액 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 포지형 포토레지스트 박리액 조성물은 지방족아민 10~50wt%, 에틸렌그리콜모노알킬에텔 0~70wt%, 비양자성 극성용제 20~90wt%, 알킬아릴폴리옥시에틸렌에텔 0.01~10wt%로 조정된다.

대표청구항

유기아민, 용제 및 계면 활성제로 이루어지는 포지형 포토레지스트 박리액 조성물에 있어서, 지방족아민 10~50wt%, 에틸렌글리콜모노알킬에텔 0~70wt%, 비양자성 극성용제 20~90wt%, 알칼아릴폴리옥시에티렌에텔 0.01~10wt%로 조성된 포지형 포토레지스트 박리액 조성물.

유기아민, 용제 및 계면 활성제로 이루어지는 포지형 포토레지스트 박리액 조성물에 있어서, 지방족아민 10~50wt%, 에틸렌글리콜모노알킬에텔 0~70wt%, 비양자성 극성용제 20~90wt%, 알칼아릴폴리옥시에티렌에텔 0.01~10wt%로 조성된 포지형 포토레지스트 박리액 조성물.