$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

포토레지스트 박리액 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-007/42
  • C11D-011/00
  • C11D-003/00
  • C11D-003/04
  • C11D-003/20
  • C11D-003/42
출원번호 10-2017-0054245 (2017-04-27)
공개번호 10-2018-0120397 (2018-11-06)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170054245
발명자 / 주소
  • 이대원 / 경기도 의왕시 내손순환로 * 래미안에버하임아파트 ***-****
  • 유충열 / 대전광역시 유성구 은구비남로 ** (노은동, 열매마을*단지)
  • 허선희 / 충청남도 아산시 음봉면 월산로 ***, ***동 ****호 (더샵레이크시티*차)
  • 김부경 / 충청남도 천안시 동남구 대흥로 **, ***-**** (구성동, 휴먼시아아파트)
  • 강주원 / 경기도 평택시 문화촌로 **, ***동 ***호 (시대한우리아파트)
  • 박지향 / 대구광역시 달서구 와룡로**길 **, *층
  • 조용정 / 경기도 안양시 만안구 문예로**번길 **, 현대맨션 ***호
  • 김준환 / 충청남도 천안시 서북구 쌍용**길 ** 한라동백아파트 ***동 ***호
  • 정병현 / 경기도 안양시 동안구 귀인로 ***, ***동 ****호 (평촌동, 초원아파트)
출원인 / 주소
  • (주)덕산테코피아 / 충남 천안시 동남구 풍세면 풍세산단*로 **
  • 정병현 / 경기도 안양시 동안구 귀인로 ***, ***동 ****호 (평촌동, 초원아파트)
대리인 / 주소
  • 김정은
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 시클로덱스트린 또는 그 유도체를 포함하는 포토레지스트 박리액 조성물을 제공한다. 이러한 본 발명에 따르면, 포토레지스트에 대한 박리성능 및 금속배선에 대한 내부식성이 우수한 박리액 조성물을 제공할 수 있을 뿐만 아니라, 인체 및 환경에 대한 유해성이 적은 친환경적인 박리액을 제공할 수 있다.

대표청구항

하기 화학식 1로 표시되는 화합물과 염기성 화합물을 포함하는 포토레지스트 박리액 조성물:<화학식 1>상기 화학식 1에서, n은 6 내지 8의 정수이며, R2 및 R3는 서로 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 알킬기, 술폰산기, 아실기, 치환 또는 비치환된 벤질기, 및 치환 또는 비치환된 벤조일기로 이루어진 군에서 선택되며,R1은 하기 화학식 2로 표시되며,<화학식 2>상기 화학식 2에서, m은 0 내지 2의 정수이며, X, Y, 및 Z는 서로 독립적으로 -OH 또는 -OM이고, 여기서 M은 Li, Na, 또

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 인산화 베타-사이클로덱스트린 및 그의 제조방법 | 임승택, 이상아
  2. [한국] 포토리소그래피용 현상액 및 레지스트 패턴 형성 방법, 그리고 포토리소그래피용 현상액의 제조 방법 및 제조 장치 | 구마가이 도모야, 우에노 나오히사, 고시야마 준
  3. [일본] RESIST REMOVING AGENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT BY USING THE SAME | IKEMOTO KAZUTO, MARUYAMA TAKEHITO
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로