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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-1997-0704871 (1997-07-18) |
공개번호 | 10-1998-0701480 (1998-05-15) |
등록번호 | 10-0394445-0000 (2003-07-30) |
국제출원번호 | PCT/US1996/000917 (1996-01-19) |
국제공개번호 | WO1996022564 (1996-07-25) |
번역문제출일자 | 1997-07-18 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019970704871 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2000-12-22) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 양성 포토레지스트를 현상하기 위한 방법 및 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 현상액 조성물은 수산화 암모늄 수성 염기 및 불소 첨가된 알킬 알콕실레이트류의 계면 활성제를 포함한다. 상기 계면 활성제는 상기 현탁액 조성물내에 10 내지 30 ppm의 양으로 존재하는 것이 가장 바람직하다. 특히 바람직한 계면 활성제는 술포닐 및 아민부를 포함한다.
(a)수성 수산화 암모늄 염기 및 약 1 내지 250 ppm의 양으로 존재하는 불소 첨가된 알킬 알콕실레이트 계면 활성제를 함유하는 수성 염기 현상액 조성물을 양성 포토레지스트 필름에 적용하는 단계; 및 (b) 상기 필름에서 현상제 조성물을 세정하는 단계를 필수적으로 포함하는 양성 포토레지스트 필름 기재의 현상 방법.제 1 항에 있어서, 상기 계면 활성제가 약 2 내지 약 95 ppm으로 존재하는 방법.제 1 항에 있어서, 상기 계면 활성제가 약 5 내지 약 50 ppm으로 존재하는 방법.제 1 항에 있어서, 상기 계면 활성제가 약
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