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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2002-0071987 (2002-11-19) |
공개번호 | 10-2004-0043620 (2004-05-24) |
등록번호 | 10-0840530-0000 (2008-06-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020020071987 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-03-12) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 박막트랜지스터 액정표시장치 또는 반도체 제조 공정에 있어서, 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토레지스트 현상액 조성물에 관한 것으로서, 무기알칼리 1.0 내지 10.0 중량%, 유기용제 0.1 내지 3.0 중량%, 계면활성제 1.0 내지 20.0 중량% 및 물 67 내지 97.9 중량%를 포함하는 포토레지스트용 현상액 조성물을 제공한다. 여기서 상기 계면활성제는 음이온계 계면활성제 및 비이온계 계면활성제로 이루어져 있고, 그 혼합비는 중량비로 1 : 10 내지 1 : 100인 것이 바람직하다. 상기 레지스트 현상액
전체 현상액 조성물에 대하여, 무기알칼리 1 내지 10 중량%, 유기 용제 0.1 내지 3.0 중량%, 계면활성제 1.0 내지 20.0 중량% 및 물 67 내지 97.9 중량%를 포함하는 포토레지스트 현상액 조성물.
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