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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2002-0006687 (2002-02-06) |
공개번호 | 10-2002-0069114 (2002-08-29) |
등록번호 | 10-0527226-0000 (2005-11-01) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020020006687 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2002-12-24) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 웨이퍼와 같은 전자부품 기판상에 포토레지스트 패턴을 현상하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 상기 방법 및 장치에서는 특정 현상액(developer) 조성물 및 특정 세척 조성물을 순서대로 사용하여 노광된 포토레지스트 패턴을 현상한 후 현상된 패턴을 세척한다. 현상액 조성물 및 세척 조성물은 둘다 음이온성 계면활성제를 함유하며, 순서대로 사용되는 경우, 종횡비(aspect ratio)가 약 3보다 크고 선의 나비가 150㎚ 미만인 것과 같은 작은 특징부가 형성될 때에도 패턴 붕괴가 방지되는 레지스트 패턴을
전자부품 기판상에 포토레지스트 필름을 코팅하는 단계; 상기 포토레지스트 필름을 예비결정된 패턴에 노광하는 단계; 상기 노광된 포토레지스트 필름에, 패턴 붕괴를 방지하기에 충분한 양의 음이온성 계면활성제를 함유하는 현상액 조성물을 공급하여 포토레지스트 패턴을 현상하는 단계; 상기 포토레지스트 필름을 현상하여 예비결정된 포토레지스트 패턴을 형성하고 기판을 습윤 상태로 유지시키는 단계; 상기 습식 현상된 기판상에, 탈이온수 및 패턴 붕괴를 방지하기에 충분한 양의 음이온성 계면활성제를 포함하는 세척 수용액을 공급하는 단계; 상기 현상된 기
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