최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-1998-0037310 (1998-09-10) |
공개번호 | 10-1999-0044819 (1999-06-25) |
등록번호 | 10-0530755-0000 (2005-11-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980037310 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2003-07-26) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
리드프레임 제조방법이 개시된다. 이 리드프레임 제조방법은, 리드프레임용 소재를 전처리하는 단계와, 상기 전처리가 완료된 소재에 드라이필름을 압착시키는 단계와, 상기 소재에 압착된 드라이필름에 대하여 노광 및 현상공정을 통하여 소정 패턴을 형성하는 단계와, 상기 현상공정이 완료된 드라이필름을 자외선을 조사하여 건조시키거나, 적외선 열경화로 경화시키는 경화단계 및 상기 경화단계 후의 리드프레임을 에칭하는 단계를 포함하여 이루어지며, 리드프레임에 대한 에칭시 신뢰성이 향상되며, 미세에칭이 가능하다는 장점이 있다.
리드프레임용 소재를 전처리하는 단계;상기 전처리가 완료된 소재에 드라이필름을 압착시키는 단계;상기 소재에 압착된 드라이필름에 대하여 노광 및 현상공정을 통하여 소정 패턴을 형성하는 단계;상기 현상공정이 완료된 드라이필름에 자외선을 조사하여 건조시키는 경화단계; 및 상기 경화단계후의 리드프레임을 에칭하는 단계;를 포함하는 리드프레임 제조방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.